[发明专利]基板清洗装置、显影机及基板清洗方法

权利要求书

1.一种基板清洗装置，其特征在于，所述基板清洗装置包括清洗液的输出管道，且所述输出管道与待清洗基板相对的一面设置有多个出液喷头；

所述基板清洗装置还包括一驱动装置，所述驱动装置与所述输出管道连接，用于驱动所述输出管道按照设定频率沿设定方向移动。

2.根据权利要求1所述的基板清洗装置，其特征在于，所述输出管道的两侧端口均为入液口。

3.根据权利要求2所述的基板清洗装置，其特征在于，所述输出管道的两侧端口的入液压力相等。

4.根据权利要求1～3任一项所述的基板清洗装置，其特征在于，所述输出管道的延伸方向与所述待清洗基板的传送方向的夹角成90度。

5.根据权利要求1所述的基板清洗装置，其特征在于，所述输出管道移动的所述设定频率为20次/分钟；所述输出管道移动的所述设定方向为与所述输出管道延伸方向垂直的左右两侧。

6.根据权利要求1～3任一项所述的基板清洗装置，其特征在于，所述输出管道和所述驱动装置设置于第一腔体内，所述基板清洗装置还包括依次通过所述待清洗基板的传送装置连通的第二腔体、第三腔体以及第四腔体，其中所述第二腔体为超高压二流体腔，所述第三腔体为高压二流体狭缝腔，所述第四腔体为水洗腔，所述待清洗基板从所述第四腔体沿着所述传送装置传送方向依次经过所述第三腔体、所述第二腔体进行相应清洗后，传送至所述第一腔体进行清洗。

7.根据权利要求6所述的基板清洗装置，其特征在于，所述第二腔体在位于所述传送装置的两侧均设有第二喷头、所述第三腔体在位于所述传送装置的两侧均设有第三喷头、所述第四腔体在位于所述传送装置的两侧均设有第四喷头。

8.一种显影机，其特征在于，所述显影机包括权利要求1～7任一项所述的基板清洗装置。

9.一种基板的清洗方法，其特征在于，所述清洗方法包括：

清洗液的输出管道在其出液喷头出液的同时，在驱动装置的驱动下，按照设定频率沿设定方向移动以对待清洗基板进行清洗；其中，所述出液喷头设置于所述输出管道与所述待清洗基板相对的一面。

10.根据权利要求9所述的清洗方法，其特征在于，所述清洗液的输出管道在所述出液喷头出液的同时，在驱动装置的驱动下，按照设定频率沿设定方向移动以对待清洗基板进行清洗的步骤还包括：

所述输出管道从两侧端口输入所述清洗液，并按照所述设定频率沿所述设定方向移动以对所述待清洗基板进行清洗。