[发明专利]一种基坑内局部帷幕止水方法

说明书

本发明提出了一种基坑内局部帷幕止水方法，解决了现有技术中在渗透性腔的图层施工时严重浪费地下水资源，且造成施工成本增加的问题；包括在需要施工的位置确定若干导向槽的位置，并进行导向槽的设置；根据设置的导向槽的位置进行一期槽段的成型；待S2步骤中一期槽段成型完成后，进行二期槽段成型；一期槽段与二期槽段之间注浆，并进行一期槽段和二期槽段顶部清理，通过一期槽段和二期槽段形成帷幕；设置疏干井和排水系统，配合一期槽段和二期槽段进行地下水抽取；本发明提出的基坑内局部帷幕止水方法在降低成本的同时避免了水资源的浪费。

技术领域

本发明涉及建筑领域，特别是指一种基坑内局部帷幕止水方法。

背景技术

建筑施工过程中，常需要进行地下水的处理，其中，进行地下水处理方式有管井降水、帷幕止水或地下连续墙止水等。

然而对于底板局部位于地下水位以下的工程则只能采取管井抽降的方法，且一旦遇到渗透性强的土层，会伴随有大量的水渗透，需要采用抽水的方式将大量的渗水抽出，这样，一方面严重浪费地下水资源，另一方面需要投入大量的人力和物力，造成施工成本增加。

发明内容

本发明提出一种基坑内局部帷幕止水方法，解决了现有技术中在渗透性腔的图层施工时严重浪费地下水资源，且造成施工成本增加的问题。

本发明的技术方案是这样实现的：

一种基坑内局部帷幕止水方法，包括如下步骤：

S1、在需要施工的位置确定若干导向槽的位置，并进行导向槽的设置；

S2、根据S1步骤中设置的导向槽的位置进行一期槽段的成型；

S3、待S2步骤中一期槽段成型完成后，进行二期槽段成型；

S4、一期槽段与二期槽段之间注浆，并进行一期槽段和二期槽段顶部清理，通过一期槽段和二期槽段形成帷幕；

S5、设置疏干井和排水系统，配合一期槽段和二期槽段进行地下水抽取。

作为进一步的技术方案，S1步骤包括：

S11、确定若干导向槽的位置和尺寸，并进行定位后采用白灰洒出帷幕轴线，并根据帷幕轴线进行导向槽挖线；

S12、根据泥浆需求量，在基坑内挖掘泥浆池，并进行泥浆配制；

S13、确定相邻导向槽之间的接头孔尺寸，并进行接头孔设置，通过接头孔将导向槽分为一期槽段和二期槽段。

作为进一步的技术方案，S11步骤中导向槽的深度为1.5-1.8m；导向槽的长度为5.6-5.9m。

作为进一步的技术方案，S2步骤包括：

S21、将若干接头管依次置于若干接头孔中，并确保若干接头管的底部与接头孔底部接触；

S22、将混凝土通过导管置于一期槽段内，进行混凝土水下浇筑。

5作为进一步的技术方案，S22步骤为：

将混凝土通过导管置于一期槽段内，需保证注入混凝土时是通过相邻接头管同时注入，需保证混凝土面上升速度不小于2m/h，若干一期槽段注入混凝土的间隔不超过30min。

作为进一步的技术方案，S3步骤包括：

S31、待混凝土凝固后依次拔起若干接头管，并在接头孔的位置注入泥浆。

S32、在相邻一期槽段之间进行二期槽段成型；

S33、将若干管身设置有溢浆孔的注浆管与一期槽段相邻设置；

S34、向二期槽段内注入混凝土。