[发明专利]一种基于全局随机编码规则的混合衍射光栅有效

专利信息
申请号: 201810527262.1 申请日: 2018-05-29
公开(公告)号: CN108761605B 公开(公告)日: 2021-05-04
发明(设计)人: 刘克;王健年;李艳秋 申请(专利权)人: 北京理工大学
主分类号: G02B5/18 分类号: G02B5/18
代理公司: 北京理工大学专利中心 11120 代理人: 李微微;仇蕾安
地址: 100081 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 基于 全局 随机 编码 规则 混合 衍射 光栅
【权利要求书】:

1.基于全局随机编码规则的混合衍射光栅,其特征在于,由全局随机编码振幅衍射光栅和棋盘位相光栅叠加而成;

所述全局随机编码振幅光栅的每个周期由多个像元构成;

所述像元具有两种不同的设定透射率,分别为1和0;且该两种透射率像元在所述全局随机编码振幅衍射光栅上随机分布,所述随机分布规则为:针对各个周期的同一像元位置,该像元位置的平均透射率等于正弦函数的绝对值理想衍射光栅在对应位置的透射率。

2.如权利要求1所述的基于全局随机编码规则的混合衍射光栅,其特征在于,所述全局随机编码振幅衍射光栅由不透光掩膜S1实现;所述棋盘位相光栅由透光基底S2实现;

所述不透光掩模S1叠加在透光基底S2上;不透光掩模S1上划分为多个周期,每个周期又划分为网格,作为像元;在不透光掩模S1上根据所述随机分布规则对像元位置进行刻蚀,则被刻蚀像元的透射率为1,未被刻蚀像元的透射率为0;

再对透光基底S2进行刻蚀,刻蚀的规则为:在每一个周期上等分成四个区域,选择两个对角线区域,在该两个区域上进行刻蚀,刻蚀位置为不透光掩模S1上被刻蚀的像元位置,刻蚀深度为其中λ为入射光波的波长,n为透光基底材料的折射率。

3.如权利要求1或2所述的基于全局随机编码规则的混合衍射光栅,其特征在于,周期宽度大于或等于5个像元的宽度。

4.如权利要求2所述的基于全局随机编码规则的混合衍射光栅,其特征在于,所述透光基底S2的材料为石英。

5.如权利要求1或2所述的基于全局随机编码规则的混合衍射光栅,其特征在于,所述像元为正方形,其面积的取值为1平方微米至25平方微米。

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