[发明专利]一种硼掺杂多孔碳材料的制备方法有效
申请号: | 201810529256.X | 申请日: | 2018-05-26 |
公开(公告)号: | CN108597894B | 公开(公告)日: | 2019-12-10 |
发明(设计)人: | 蔡金光;吕超;胡存;宋江锋;石岩;罗军洪 | 申请(专利权)人: | 中国工程物理研究院材料研究所 |
主分类号: | H01G11/26 | 分类号: | H01G11/26;H01G11/32;H01G11/86 |
代理公司: | 51239 成都众恒智合专利代理事务所(普通合伙) | 代理人: | 唐健玲 |
地址: | 621700 四*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 多孔碳材料 制备 硼掺杂 微型超级电容器 硼酸 制备高性能 复合膜 制备混合溶液 导电性 聚酰胺酸 聚酰亚胺 孔径分布 图案化 掺入 可调 可用 | ||
1.一种硼掺杂多孔碳材料的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
(1)制备混合溶液:将硼酸与聚酰胺酸溶液按质量比0~30:100在25~100℃条件下溶解混合,待硼酸溶解后得到混合溶液;
(2)制备聚酰胺酸/硼酸复合膜:将混合溶液均匀的滴涂在45~80℃条件下干净的基底上,放置至溶剂挥发完毕,得到聚酰胺酸/硼酸复合膜;
(3)聚酰亚胺/硼酸复合膜:将得到聚酰胺酸/硼酸复合膜在升温速率为0~20℃/min条件下升温,温度达到120~250℃时保温使聚酰胺酸/硼酸复合膜反应,得到聚合后的聚酰亚胺与硼酸的复合膜;
(4)制备硼掺杂多孔碳材料:采用连续波激光对聚酰亚胺/硼酸复合膜进行激光照射使其碳化,即可得到硼掺杂的多孔碳材料。
2.根据权利要求1所述的硼掺杂多孔碳材料的制备方法,其特征在于,所述步骤(2)中,基底为玻璃基底、硅基底或金属基底。
3.根据权利要求2所述的硼掺杂多孔碳材料的制备方法,其特征在于,所述步骤(4)中连续波激光的功率为30~5000mW,连续波激光为小于600nm的可见光及紫外光。
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