[发明专利]一种大粒径硅溶胶的制备方法

说明书

本发明公开一种大粒径硅溶胶的制备方法，包括以下步骤：称取5nm的8kg的氧化硅的晶种，加入到200L反应釜中，加纯水至100kg，开动搅拌装置，加入4L的5％的NaOH溶液，搅拌15min；反应釜加热至100‑105℃后，以40L/min左右的流速向反应釜加入活性硅酸，维持恒定液面；每三个小时测试一次pH值，通过加入120ml左右的5％的NaOH溶液，将pH值下降速度控制在每三个小时0.1左右，最后pH控制在9.0之间；当粒径达到105nm时，开始停止加热。该大粒径硅溶胶对A向蓝宝石的抛光速率快，比现有技术提高50％以上，且制备大粒径硅溶胶的方法简单、能耗低。

技术领域

本发明涉及抛光的技术领域，特别涉及一种大粒径硅溶胶的制备方法。

背景技术

硅溶胶抛光液主要是针对大规模集成电路、LED用的蓝宝石衬底以及手机、手表等蓝宝石盖板的抛光，其市场规模庞大，对硅溶胶抛光液的需求量也很大。大量研究表明，硅溶胶抛光液的抛光速率与硅溶胶的粒径有很大的关系，实验证明粒径越大，其抛光速率越快。但是，合成大粒径的硅溶胶，尤其在110-120nm左右的硅溶胶，难度大且工艺复杂。

发明内容

本发明的目的是提供一种大粒径硅溶胶的制备方法，解决上述现有技术问题中的一个或者多个。

本发明提供一种大粒径硅溶胶的制备方法的制备方法，包括以下步骤：

A1、称取5nm的8kg的氧化硅的晶种，加入到200L反应釜中，加纯水至100kg，开动搅拌装置，加入4L的5％的NaOH溶液，搅拌15min；

A2、反应釜加热至100-105℃后，以40L/min左右的流速向反应釜加入活性硅酸，维持恒定液面；

A3、每三个小时测试一次pH值，通过加入120ml左右的5％的NaOH溶液，将pH值下降速度控制在每三个小时0.1左右，最后pH控制在9.0之间；

A4、当粒径达到105nm时，开始停止加热，冷却后得到所述大粒径硅溶胶。

具体实施方式

下面的实施案例，对本发明进行进一步详细的说明。

实施案例1：

A1、称取5nm的8kg的氧化硅的晶种，加入到200L反应釜中，加纯水至100kg，开动搅拌装置，加入4L的5％的NaOH溶液，搅拌15min；

A2、反应釜加热至100-105℃后，以40L/min左右的流速向反应釜加入活性硅酸，维持恒定液面；

A3、每三个小时测试一次pH值，通过加入120ml左右的5％的NaOH溶液，将pH值下降速度控制在每三个小时0.1左右，最后pH控制在9.0之间；

A4、当粒径达到105nm时，开始停止加热，冷却后得到所述大粒径硅溶胶。

本发明提供的实施方案，该大粒径硅溶胶对A向蓝宝石的抛光速率快，比现有技术提高50％以上，且制备大粒径硅溶胶的方法简单、能耗低。

以上表述仅为本发明的优选方式，应当指出，对本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明创造构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些也应视为发明的保护范围之内。