[发明专利]离子束照射装置有效
申请号: | 201810532390.5 | 申请日: | 2018-05-29 |
公开(公告)号: | CN109427526B | 公开(公告)日: | 2020-07-31 |
发明(设计)人: | 土肥正二郎;小野田正敏;高桥元喜 | 申请(专利权)人: | 日新离子机器株式会社 |
主分类号: | H01J37/317 | 分类号: | H01J37/317;H01J37/16;H01J37/244 |
代理公司: | 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 11290 | 代理人: | 周善来;李雪春 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 离子束 照射 装置 | ||
本发明提供一种能够使束电流测量器的维保操作简单化的离子束照射装置。该离子束照射装置(1)具有固定在离子束照射位置的束电流测量器(P),束电流测量器(P)包括测量部(C)和配置在测量部(C)周围的防护罩(S),防护罩(S)包括:前面防护罩(FS),具有使离子束(3)的一部分通向测量部(C)的开口(H);后面防护罩(BS),配置在与前面防护罩(FS)相对的位置;侧面防护罩(SS),配置在除了前面防护罩(FS)和后面防护罩(BS)以外的部位,在离子束照射装置(1)的真空室(8)的壁面上具有能够开闭的门(D),门(D)兼用作后面防护罩(BS)。
技术领域
本发明涉及具有束电流测量器的离子束照射装置,所述束电流测量器用于离子束的束电流的测量。
背景技术
离子注入装置和离子铣削装置等离子束照射装置具有束电流测量器,所述束电流测量器用于测量向基板照射的离子束的束电流。
例如,在专利文献1记载的离子注入装置中,在进行基板处理的处理室或到处理室的中途的离子束输送路径上,在离子束照射到的位置配置有法拉第杯。
通常,如专利文献2所示的束电流测量器那样,除了离子束通过的特定部位以外,用防护罩等覆盖如专利文献1记载的法拉第杯那样的测量束电流的测量部的周围。设置所述防护罩用于防止在束电流测量器周围漂浮的测量所不需要的电子(下面称为不需要的电子)流入测量部。
构成束电流测量器的部件由于经时变化而需要部件更换等维保。
例如,束电流测量器的测量部由于被照射离子束,所以伴随时间的经过被离子束溅射而消耗。如果该消耗变大,则进行部件更换。
在进行更换时,进入离子束照射装置内,在拆下束电流测量器的防护罩之后进行测量部的更换,或者如果束电流测量器是小型的且质量轻,则将束电流测量器搬到离子束照射装置的外部之后拆下束电流测量器的防护罩并进行测量部的更换。
为了避免由于不需要的电子导致的离子束的误测量,需要包围测量部周围的防护罩,但是测量部的更换操作时需要拆下防护罩的拆下操作,因此测量部的更换操作变得繁杂。
除了测量部的更换产生拆下防护罩造成的繁杂以外,对于防护罩内配置的其它部件的维保操作也同样发生拆下防护罩造成的繁杂。
现有技术文献
专利文献1:日本专利公开公报特开2006-196351号
专利文献2:日本专利公开公报特开2008-128660号
发明内容
本发明提供一种使束电流测量器的维保操作简单化的离子束照射装置。
本发明提供一种离子束照射装置,其具有固定在离子束照射位置的束电流测量器,所述束电流测量器包括:测量部;以及防护罩,配置在所述测量部的周围,所述防护罩包括:前面防护罩,具有使离子束的一部分通向所述测量部的开口;后面防护罩,配置在与所述前面防护罩相对的位置;以及侧面防护罩,配置在所述前面防护罩和所述后面防护罩以外的部位,在离子束照射装置的真空室壁面上具有能够开闭的门,所述门兼用作所述后面防护罩。
通过将门兼用作后面防护罩,能够将维保操作的一部分动作共用化,能够使束电流测量器的维保操作简单化。
在维保操作的动作共用化这一方面,也可以使所述束电流测量器固定在所述门上。
按照所述结构,能够将进入装置内的动作和取放束电流测量器的动作共用化。
由于离子束照射到束电流测量器,所以束电流测量器的防护罩温度会上升。
覆盖大致长方体形状的束电流测量器的长边方向的侧面防护罩由于防护罩温度的上升导致的热变形量变大,与后面防护罩之间产生间隙。担心电子通过该间隙流入测量部。
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