[发明专利]透明吸波超材料在审

专利信息
申请号: 201810537235.2 申请日: 2018-05-30
公开(公告)号: CN108832309A 公开(公告)日: 2018-11-16
发明(设计)人: 官建国;邹凯;曹洁 申请(专利权)人: 武汉理工大学
主分类号: H01Q17/00 分类号: H01Q17/00
代理公司: 昆明合众智信知识产权事务所 53113 代理人: 张玺
地址: 430070 湖*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 透明导电 透明 无机玻璃层 石英玻璃 超材料 吸收器 吸波 耐热性 化学稳定性 吸收电磁波 单层结构 多层结构 加工流程 三层结构 使用性能 稳定性强 吸波材料 谐振单元 产业化 宽频带 上表面 基质 制备 上层 透明度 生产
【权利要求书】:

1.一种透明吸波超材料,包括三层结构组成的吸收器,其特征在于:所述吸收器包括有正方形透明导电ITO(1)、长方形透明导电ITO(2)和透明无机玻璃层(3),所述正方形透明导电ITO(1)位于长方形透明导电ITO(2)的上层,所述透明无机玻璃层(3)位于长方形透明导电ITO(2)的中间部位。

2.根据权利要求1所述的一种透明吸波超材料,其特征在于:所述正方形透明导电ITO(1)的方阻为30Ω/□,所述长方形透明导电ITO(2)的方阻为50Ω/□。

3.一种透明吸波超材料的制备方法,其特征在于:具体包括以下步骤:

S1、石英玻璃的清洗与干燥

依次用丙酮、异丙醇分别清洗石英玻璃三次,然后置于乙醇中浸泡十分钟,用去离子水清洗三次后浸入去离子水中超声振荡10min;最后将玻璃置于鼓风干燥中干燥20分钟,温度60℃;

S2、采用磁控溅射工艺在180mm×180mm×2mm的玻璃上制备ITO薄膜

按照规定流程启动总电源,然后再大气状态下将溅射室泵抽至真空状态,然后把清洗干燥好的石英玻璃放入衬底托内,将其放入样品转台内,然后再将溅射室上盖落下;控制实验环境完成对石英玻璃的两面完成溅射,正面方阻:30Ω/□,背面电阻:50Ω/□,停止溅射镀膜,并且取出样品;最后关机,关闭电源;

表面电阻用四探针仪测试,更具实际情况改变参数;

参数设置

氧含量:7%-10%;压强:0.8-1.2Mpa;溅射电压:正面200-250V、背面150-200V;基底加热温度:290-310℃;

S3、根据实际尺寸于刻蚀机控制软件中画好图,然后利用激光刻蚀工艺刻蚀方块结构,制备出透明超材料吸波体样品;

激光工作功率:600-900mW;重复频率:20KHz;线宽:40μm;刻蚀速度:300-700mm/s。

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