[发明专利]一种刃具用AlCrFeMnNi高熵合金氮化物薄膜涂层的制备方法在审
| 申请号： | 201810537689.X | 申请日： | 2018-05-30 |
| 公开（公告）号： | CN108588660A | 公开（公告）日： | 2018-09-28 |
| 发明（设计）人： | 王馨;周耀;李倩倩;应凯明;傅佳斌 | 申请（专利权）人： | 上海电机学院 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/16;C23C14/02 |
| 代理公司： | 上海伯瑞杰知识产权代理有限公司 31227 | 代理人： | 胡永宏 |
| 地址： | 200240 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 刃具 制备 氮化物薄膜 高熵合金 直流磁控溅射 磁控溅射机 丙酮超声 沉积薄膜 打磨抛光 使用寿命 氩气流量 抽真空 真空腔 最大化 吹干 放入 编程 磨损 清洗 室内 消耗 | ||
1.一种刃具用AlCrFeMnNi高熵合金氮化物薄膜涂层的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
(1)基体预处理：对基体进行打磨抛光处理，用丙酮超声清洗、吹干；
(2)制备薄膜涂层：准备AlCrFeMnNi等原子比高熵合金靶、高纯氩气和高纯氮气，将磁控溅射机炉内清理干净并预热，再将步骤(1)预处理后的基体放入上述磁控溅射机真空腔室内并抽真空，编程设置参数为：靶电流为1～2A、基本偏压为-400V、氩气流量为20sccm，在高纯氩气和高纯氮气气氛下通过直流磁控溅射工艺先对所述基体和靶材进行反溅清洗，再在上述基体表面沉积薄膜涂层，随炉冷却，即得；
其中，所述磁控溅射机为由真空系统、电源系统、控制系统和冷却系统组成的闭合场非平衡磁控溅射离子镀系统，且所述控制系统包括位于所述AlCrFeMnNi等原子比高熵合金靶周围且对称分布的若干个磁控管。
2.如权利要求1所述刃具用AlCrFeMnNi高熵合金氮化物薄膜涂层的制备方法，其特征在于，步骤(1)中，所述超声清洗时间为5～10min。
3.如权利要求1所述刃具用AlCrFeMnNi高熵合金氮化物薄膜涂层的制备方法，其特征在于，步骤(1)中，所述的基体为直径25mm、厚度6mm的GCr15钢圆块。
4.如权利要求1所述刃具用AlCrFeMnNi高熵合金氮化物薄膜涂层的制备方法，其特征在于，步骤(2)中，所述的真空度为2×10-5torr。
5.如权利要求1所述刃具用AlCrFeMnNi高熵合金氮化物薄膜涂层的制备方法，其特征在于，步骤(2)中，所述氮气的纯度为99.99％，所述氩气的纯度为99.99％。
6.一种刃具用AlCrFeMnNi高熵合金氮化物薄膜涂层，其特征在于，由权利要求1-5任一项所述AlCrFeMnNi高熵合金氮化物薄膜涂层的制备方法制得。
7.一种刀具，其特征在于，所述刀具表面包括如权利要求6所述的刃具用AlCrFeMnNi高熵合金氮化物薄膜涂层。
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