[发明专利]碲锌镉辐射敏感场效应晶体管及其制备方法有效
申请号: | 201810538191.5 | 申请日: | 2018-05-30 |
公开(公告)号: | CN108615786B | 公开(公告)日: | 2020-01-17 |
发明(设计)人: | 王处泽;张继军;闵嘉华;薛瑶;王林军;梁小燕;师好智;黄健;唐可;凌立文 | 申请(专利权)人: | 上海大学 |
主分类号: | H01L31/119 | 分类号: | H01L31/119;H01L31/032;H01L31/18 |
代理公司: | 31205 上海上大专利事务所(普通合伙) | 代理人: | 顾勇华 |
地址: | 200444*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 碲锌镉 场效应晶体管 辐射敏感 衬底 低阻 制备 绝缘层 离子注入工艺 结构探测器 器件灵敏度 栅极绝缘层 碲锌镉晶体 辐射剂量 高能射线 晶格常数 有效调节 源漏接触 杂质陷阱 阈值电压 沟道层 灵敏度 探测器 电阻 高阻 减小 薄膜 捕获 匹配 探测 引入 应用 | ||
1.一种碲锌镉辐射敏感场效应晶体管,其特征在于:包括衬底(1)、栅电极(4)、栅绝缘层(2)、沟道层(3)和源漏电极(5);在衬底(1)上形成栅绝缘层(2),在栅绝缘层(2)上形成栅电极(4),其特征在于:沟道层(3)嵌入于衬底(1)表层中,在相邻的两个沟道层(3)表面上分别形成源电极和漏电极,组成源漏电极(5)功能层,源漏电极(5)穿过栅绝缘层(2)的图案化孔,栅电极(4)形成于在相邻的两个沟道层(3)之间的栅绝缘层(2)表面上,所述衬底(1)和栅绝缘层(2)的材料均采用碲锌镉材料制成,其中,衬底(1)采用低阻碲锌镉晶体材料制成,在衬底(1)上形成高阻碲锌镉薄膜,作为栅绝缘层(2)。
2.根据权利要求1所述碲锌镉辐射敏感场效应晶体管,其特征在于:所述沟道层(3)由将铟离子摻杂于所述衬底(1)的低阻碲锌镉材料中形成。
3.根据权利要求1所述碲锌镉辐射敏感场效应晶体管,其特征在于:所述衬底(1)采用的低阻碲锌镉晶体材料的电阻率为105~107Ω·cm,导电类型为P型。
4.根据权利要求1所述碲锌镉辐射敏感场效应晶体管,其特征在于:作为所述栅绝缘层(2)的高阻碲锌镉薄膜电阻率为109~1011Ω·cm,导电类型为N型。
5.根据权利要求1所述碲锌镉辐射敏感场效应晶体管,其特征在于:所述栅电极(4)或源漏电极(5)采用Au/Cr复合电极。
6.根据权利要求1所述碲锌镉辐射敏感场效应晶体管,其特征在于:衬底(1)的厚度不大于2mm,作为所述栅绝缘层(2)的高阻碲锌镉薄膜的厚度为100~400μm,沟道层厚度为20~80μm;锌镉辐射敏感场效应晶体管的整体器件的长宽比为10/2~30/6mm。
7.一种权利要求1所述的碲锌镉辐射敏感场效应晶体管的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:
a.选取低阻碲锌镉晶体材料作为衬底,生长一层高阻碲锌镉薄膜覆盖衬底,形成栅绝缘层;
b.对在所述步骤a中制备的碲锌镉薄膜进行光刻腐蚀,在衬底表层图案化形成沟道,在沟道中填满掺杂金属材料,然后使顶层低阻碲锌镉衬底材料进行固化,获得沟道层;
c.使用真空蒸发法,在对应的沟道层位置上形成源电极和漏电极,在相邻的两个沟道层之间的栅绝缘层上形成栅电极,从而得到碲锌镉辐射敏感场效应晶体管器件结构。
8.根据权利要求1所述碲锌镉辐射敏感场效应晶体管的制备方法,其特征在于:在所述步骤a中,高阻碲锌镉薄膜的生长方法采用真空蒸发法或者近空间升华法。
9.根据权利要求1所述碲锌镉辐射敏感场效应晶体管的制备方法,其特征在于:在所述步骤b中,形成沟道层的掺杂方法为离子摻杂注入法或者扩散法。
10.根据权利要求1所述碲锌镉辐射敏感场效应晶体管的制备方法,其特征在于:在所述步骤c中,所述栅电极和源漏电极皆优选采用Au/Cr复合电极。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的