[发明专利]基于CRISPR的基因组修饰和调控在审

专利信息
申请号: 201810540449.5 申请日: 2013-12-05
公开(公告)号: CN108715602A 公开(公告)日: 2018-10-30
发明(设计)人: F.陈;G.D.戴维斯 申请(专利权)人: 西格马-奥尔德里奇有限责任公司
主分类号: C07K7/06 分类号: C07K7/06;C07K14/46;C12N7/00;C12N9/22;C12N9/96;C12N15/10;C12N15/11;C12N15/63;C12N15/67;C12N15/85;C12N15/86;C12N15/90
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 黄登高;黄希贵
地址: 美国密*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 融合蛋白 结构域 核酸内切酶 染色体序列 真核细胞 效应子 修饰 胚胎 转录激活结构域 基因组修饰 靶基因组 工程改造 剪切结构 遗传修饰 转录抑制 子结构 调控 蛋白
【权利要求书】:

1.用于修饰真核细胞中的染色体序列的方法,所述方法包括:

a) 向真核细胞引入两种RNA指导的切口酶系统或编码所述系统的核酸,和任选供体多核苷酸,其中各RNA指导的切口酶系统包含

(i)经修饰以剪切双链序列的一条链的RNA指导的核酸内切酶;和

(ii)指导RNA,其包含与染色体序列中的靶位点具有互补性的第一区域和与RNA指导的核酸内切酶相互作用的第二区域,

其中各靶位点紧接着原间隔毗连基序(PAM),并且两种RNA指导的核酸内切酶的靶位点在染色体序列的相对链上;和

b)培养所述真核细胞使得两种RNA指导的核酸内切酶足够靠近剪切染色体序列的相对链,以在染色体序列中引入双链断裂,并且所述双链断裂通过DNA修复过程修复使得所述染色体序列被修饰,其中

所述方法不包括用于修饰人类的种系遗传身份的过程和,其中

所述方法不包括用于治疗人或动物身体的方法。

2.用于修饰真核细胞中的染色体序列的离体或体外方法,所述方法包括:

a) 向真核细胞引入两种RNA指导的切口酶系统或编码所述系统的核酸,和任选供体多核苷酸,其中各RNA指导的切口酶系统包含

(i)经修饰以剪切双链序列的一条链的RNA指导的核酸内切酶;和

(ii)指导RNA,其包含与染色体序列中的靶位点具有互补性的第一区域和与RNA指导的核酸内切酶相互作用的第二区域,

其中各靶位点紧接着原间隔毗连基序(PAM),并且两种RNA指导的核酸内切酶的靶位点在染色体序列的相对链上;和

b)培养所述真核细胞使得两种RNA指导的核酸内切酶足够靠近剪切染色体序列的相对链,以在染色体序列中引入双链断裂,并且所述双链断裂通过DNA修复过程修复使得所述染色体序列被修饰,其中

所述方法不包括用于修饰人类的种系遗传身份的过程。

3.权利要求1或2的方法,其中各RNA指导的核酸内切酶衍生自成簇的规律间隔的短回文重复(CRISPR)/CRISPR相关的(Cas) (CRISPR/Cas)类型II系统蛋白。

4.权利要求3的方法,其中所述CRISPR/Cas类型II系统蛋白是Cas9蛋白。

5.权利要求4的方法,其中所述Cas9蛋白包含RuvC或HNH结构域中的突变。

6.权利要求1-4中任一项的方法,其中各RNA指导的核酸内切酶进一步包含至少一个选自核定位信号、细胞穿透结构域或标志物结构域的另外的结构域。

7.权利要求1-5中任一项的方法,其中所述靶位点是Rosa26基因座、HPRT基因座或AAVS1基因座。

8.权利要求1-7中任一项的方法,其中所述供体多核苷酸包含供体序列,所述供体序列相对于染色体序列中的靶位点附近的染色体序列具有至少一个核苷酸改变。

9.权利要求8的方法,其中所述供体序列侧接与位于染色体序列中靶位点上游和下游的序列具有基本序列同一性的序列。

10.权利要求8或9的方法,其中所述供体序列侧接与由RNA指导的核酸内切酶生成的突出端相容的短突出端。

11.权利要求1-10中任一项的方法,其中编码各RNA指导的核酸内切酶的核酸是mRNA,和编码各指导RNA的核酸是DNA。

12.权利要求1-10中任一项的方法,其中编码各RNA指导的核酸内切酶的核酸是DNA,和编码各指导RNA的核酸是DNA。

13.权利要求12的方法,其中所述DNA是载体的一部分,所述载体进一步包含与编码RNA指导的核酸内切酶的核酸可操作连接的启动子控制序列和与编码指导RNA的核酸可操作连接的启动子控制序列。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西格马-奥尔德里奇有限责任公司,未经西格马-奥尔德里奇有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810540449.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top