[发明专利]采用刻蚀工艺制成的可实现局部擦除的书写膜及加工工艺和应用

说明书

本发明公开了一种采用刻蚀工艺制成的可实现局部擦除的书写膜及加工工艺和应用，包括：依次排布的第一导电层、液晶层和第二导电层；采用刻蚀方法，将该导电层分割成两个或两个以上相互绝缘的带状导电区域；导电区域、液晶层和未分割的导电层共同重叠的部分为可擦除区域；或者，采用刻蚀方法，将第一导电层和第二导电层分别分割成两个或两个以上相互绝缘的导电区域；第一导电层和第二导电层的导电区域在空间的重叠部分与该部分对应的液晶层区域共同形成擦除区域；本发明有益效果：能够实现对于书写内容的局部区域擦除，而其他区域则不受擦除影响，克服了传统技术只能实现全部擦除的不足，提高液晶书写膜及其应用设备的商业价值。

技术领域

本发明涉及液晶书写膜技术领域，特别是涉及一种采用刻蚀工艺制成的可实现局部擦除的书写膜及加工工艺和应用。

背景技术

本专利所述的液晶书写膜与普通的液晶显示膜以及等离子显示膜在液晶组分、工作原理、应用范围、使用方式等方面均存在明显区别，尤其是在书写方面，普通的液晶显示膜以及等离子显示膜均无法实现压痕书写并对痕迹进行擦除。

目前市面上的液晶书写膜，其工作原理是利用液晶的双稳态特性实现显示和/或擦除液晶写字板上的书写内容。例如,以胆甾相液晶作为书写膜,通过作用在液晶写字板上的压力来记录书写笔的书写压力轨迹，进而显示对应的书写内容；通过施加电场使胆甾相液晶结构发生变化，使液晶写字板上的书写压力轨迹消失以实现擦除。

现有的采用液晶书写膜的产品，在进行笔迹擦除时，仅能利用通电方式实现整个液晶书写板内所有笔迹的擦除，如用户仅需擦除部分字迹时,则现有的通电擦除方式无法满足需要，尤其是对书写有错误的部分进行修改时，现有的整体擦除方式将会造成其余不需修改信息的丢失，如何利用通电方式实现部分擦拭，成为用户迫切需要解决的问题。

发明内容

本发明的第一目的是公开一种采用刻蚀工艺制成的可实现局部擦除的书写膜，该书写膜利用局部电场即可实现局部擦除，擦除速度快，随擦随写，及时性好，局部擦除以及书写的效率高。

为了实现上述目的，本发明采用如下技术方案：

一种采用刻蚀工艺制成的可实现局部擦除的书写膜，包括：

依次排布的第一导电层、液晶层和第二导电层；

采用刻蚀方法，在书写膜的第一导电层或第二导电层其中一个上刻蚀出至少一条绝缘用的刻蚀线，通过所述刻蚀线将该导电层分割成两个或两个以上相互绝缘的带状导电区域；

所述导电区域、绝液晶层和未分割的导电层共同重叠的部分为可擦除区域。

本发明改变了只能整体擦除的现状，通过刻蚀方法对导电层进行分割，将书写膜分割成若干局部可擦除区域，利用这些区域的电场叠加形成电压差，能够实现局部擦除。

进一步地，所述各带状导电区域相互平行。

考虑到加工成本以及工艺的难易程度，本发明将导电层分割成带状导电区域，进一步地，各带状导电区域相互平行设置，有利于提高加工效率，降低工艺成本，便于批量生产。

进一步地，所述各导电区域至少应包含其所属导电层边缘的一部分，有利于为各导电区域提供电压，且不影响书写膜的书写质量。

进一步地，所述刻蚀线的线宽不大于1mm；

优选地，所述刻蚀线的线宽在10μm～200μm之间。

刻蚀线线宽的设置对于书写膜的书写及显示效果具有非常重要的影响，刻蚀线太宽容易导致擦除不净，影响显示效果；刻蚀线太细对生产工艺的精度要求较高，不利于工业生产。

进一步地，所述各导电区域的宽度相同；

优选地，所述导电区域的宽度为1mm-15mm。