[发明专利]一种照明系统、曝光系统及光刻设备

权利要求书

1.一种照明系统，其特征在于，包括：

光源，用于输出线偏振的照明光束；

光束调整模块，位于所述光源的出光侧，用于接收所述照明光束并形成具有特定形状的光瞳；

所述光束调整模块包括锥镜组，所述锥镜组上镀有光学膜层，所述光学膜层对s光和p光的透过率不同；

所述光源与所述光束调整模块之间还设置有偏振态调节模块，所述偏振态调节模块包括波片，所述波片与垂直所述照明光束光轴的平面具有第一夹角，用于将照明光束的偏振态由线偏振改变为部分偏振，使所述光瞳在水平和竖直方向均具有能量分布，从而改变所述光瞳的椭圆度。

2.根据权利要求1所述的照明系统，其特征在于，所述波片为四分之一波片或者二分之一波片或者全波片。

3.根据权利要求1所述的照明系统，其特征在于：

所述偏振态调节模块还包括角度调节器，所述角度调节器用于调节所述第一夹角。

4.根据权利要求1所述的照明系统，其特征在于，所述光束调整模块包括：

光瞳形成单元，用于调节所述照明光束在光瞳面上形成预设形状的光瞳。

5.根据权利要求4所述的照明系统，其特征在于，所述光束调整模块还包括：变焦镜组，所述变焦镜组沿光路设置于所述光瞳形成单元之后，用于将所述光瞳形成单元的出射光束成像于像面；

所述锥镜组的光入射面位于所述变焦镜组的像面，所述锥镜组用于调节所述预设形状的光瞳的相干因子。

6.根据权利要求1或5所述的照明系统，其特征在于，所述锥镜组包括相对设置的正轴锥镜和负轴锥镜，所述正轴锥镜沿光路方向设置于所述负轴锥镜之后，所述正轴锥镜和/或所述负轴锥镜上镀有所述光学膜层。

7.根据权利要求6所述的照明系统，其特征在于，所述正轴锥镜和所述负轴锥镜的底面为圆形或正多边形，所述正多边形的边数为4的倍数。

8.根据权利要求1所述的照明系统，其特征在于，还包括：

会聚镜组，沿光路设置于所述光束调整模块的出光侧，用于会聚所述照明光束；

中继镜组，沿光路设置于所述会聚镜组的出光侧；用于将所述照明光束进行投影。

9.根据权利要求8所述的照明系统，其特征在于，还包括：

匀光模块，用于使所述照明光束均匀出射。

10.根据权利要求9所述的照明系统，其特征在于：

所述匀光模块为微透镜阵列，沿光路设置于所述光束调整模块和所述会聚镜组之间。

11.根据权利要求9所述的照明系统，其特征在于：

所述匀光模块为匀光石英棒，沿光路设置于所述会聚镜组和所述中继镜组之间。

12.根据权利要求1所述的照明系统，其特征在于：

所述光源为激光器。

13.一种曝光系统，其特征在于，包括如权利要求1-12任一所述的照明系统，还包括第一工作台，投影物镜系统以及第二工作台；

所述第一工作台位于所述照明系统的出光侧，用于放置掩模板；所述投影物镜系统位于所述第一工作台远离所述照明系统一侧，用于聚焦所述照明系统的出射光至曝光基底；所述第二工作台位于所述投影物镜系统远离所述第一工作台一侧，用于放置所述曝光基底。

14.一种光刻设备，其特征在于，包括如权利要求13所述的曝光系统。