[发明专利]一种退镀液及退镀工艺

说明书

本发明提供了一种退镀液及退镀工艺，退镀液以质量分数计，由以下组分组成：硫酸30～40％，柠檬酸2～5％，过氧化氢5～10％，异辛醇聚氧乙烯醚渗透剂1～1.5％，余量为水。本发明提供的由特定含量的上述特定组分组成的退镀液在退镀玻璃上的电镀LOGO时，具有较高的产品良率。实验结果表明：该退镀液退镀玻璃上的电镀LOGO时的产品良率为97～99.3％。

技术领域

本发明涉及退镀技术领域，尤其涉及一种退镀液及退镀工艺。

背景技术

随着社会的进步，2D玻璃、3D玻璃已经应用于电子产品上，而且成为一种时尚，与传统塑料和金属手机电池盖相比，2D玻璃、3D曲面玻璃有轻薄、透明洁净、抗指纹、防眩光、耐刮伤、耐候性等优点。而且在玻璃上电镀LOGO(一种NCVM膜)也成为一种时尚，一种潮流，从而对退镀工艺的要求也越来越严格。该电镀LOGO的成分包括：氧化铟、氧化钛、氧化硅等复合膜层，电镀LPGO的厚度为45～60μm。

现有技术中采用的单一组分退镀液，如氢氧化钾或氢氧化钠，在退镀电镀LOGO过程中，会对LOGO造成过退、丝印油墨造成牙缺、麻点等问题，使得退镀产品的良率较低。

发明内容

有鉴于此，本发明的目的在于提供一种退镀液及退镀工艺，该退镀液退镀时具有较高的产品良率。

本发明提供了一种退镀液，以质量分数计，由以下组分组成：

硫酸30～40％，柠檬酸2～5％，过氧化氢5～10％，异辛醇聚氧乙烯醚渗透剂1～1.5％，余量为水。

优选地，所述退镀液具体由以下组分组成：

硫酸30％、柠檬酸5％，过氧化氢10％，异辛醇聚氧乙烯醚渗透剂1％，水54％；

或硫酸35％、柠檬酸4％，过氧化氢7％，异辛醇聚氧乙烯醚渗透剂1.2％，水52.8％；

或硫酸40％、柠檬酸2％，过氧化氢6％，异辛醇聚氧乙烯醚渗透剂1.5％，水50.5％。

优选地，所述异辛醇聚氧乙烯醚渗透剂选自型号OEP-70渗透剂和/或OEP-89渗透剂。

本发明提供了一种含有真空不导电镀膜的玻璃的退镀工艺，包括以下步骤：

将含有不导电镀膜的玻璃置于上述技术方案所述退镀液中退镀，水洗后再次退镀；

所述不导电镀膜中包括氧化铟、氧化钛和氧化硅。

优选地，所述再次退镀采用的碱性组合物包括以下组分：

无机碱25～35wt％，脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸钠0.5～1.5wt％，α-烯烃磺酸钠0.5～1.5wt％，余量为水。

优选地，所述退镀的温度为10～40℃；所述退镀的时间为2～3min。

优选地，所述再次退镀的温度为65～75℃；所述再次退镀的时间为80～120s。

本发明提供了一种退镀液，以质量分数计，由以下组分组成：硫酸30～40％，柠檬酸2～5％，过氧化氢5～10％，异辛醇聚氧乙烯醚渗透剂1～1.5％，余量为水。本发明提供的由特定含量的上述特定组分组成的退镀液在退镀玻璃上的电镀LOGO时，具有较高的产品良率。实验结果表明：该退镀液退镀玻璃上的电镀LOGO时的产品良率为97～99.3％。

具体实施方式

本发明提供了一种退镀液，以质量分数计，由以下组分组成：

硫酸30～40％，柠檬酸2～5％，过氧化氢5～10％，异辛醇聚氧乙烯醚渗透剂1～1.5％，余量为水。

本发明提供的由特定含量的上述特定组分组成的退镀液在退镀玻璃上的电镀LOGO时，具有较高的产品良率。