[发明专利]OLED显示基板及其制作方法、显示装置在审
| 申请号： | 201810551648.6 | 申请日： | 2018-05-31 |
| 公开（公告）号： | CN108511629A | 公开（公告）日： | 2018-09-07 |
| 发明（设计）人： | 崔延镇;韩金;贾红红;赵立锦;谷晓俊 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
| 主分类号： | H01L51/52 | 分类号： | H01L51/52;H01L51/56 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 刘伟;张博 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 基板 封装单元 显示装置 无机层 有机层 光线透过率 类金刚石层 衬底基板 使用寿命 氟掺杂 外界水 制作 阻隔 覆盖 保证 | ||
1.一种OLED显示基板，包括位于衬底基板上的OLED器件以及覆盖所述OLED器件的至少一个封装单元，其特征在于，每一所述封装单元包括无机层、有机层以及位于所述无机层和所述有机层之间的氟掺杂类金刚石层。
2.根据权利要求1所述的OLED显示基板，其特征在于，所述氟掺杂类金刚石层中，氟元素的含量小于10wt％。
3.根据权利要求1所述的OLED显示基板，其特征在于，所述氟掺杂类金刚石层的厚度为10nm～100nm。
4.根据权利要求1所述的OLED显示基板，其特征在于，每一所述封装单元还包括限定结构，每一所述封装单元的所述有机层及所述氟掺杂类金刚石层位于所述限定结构限定出的区域内。
5.根据权利要求4所述的OLED显示基板，其特征在于，所述限定结构的材料采用类金刚石、石墨烯、银、铝、氮化铝及铜中的一种或多种。
6.根据权利要求4所述的OLED显示基板，其特征在于，在所述OLED显示基板包括至少两个所述封装单元时，从靠近OLED器件到远离OLED器件的方向上，上一封装单元的所述限定结构位于下一封装单元的所述限定结构限定出的区域内。
7.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-6中任一项所述的OLED显示基板。
8.一种OLED显示基板的制作方法，包括在衬底基板上形成OLED器件以及覆盖所述OLED器件的至少一个封装单元，其特征在于，形成所述封装单元包括：
依次形成无机层、氟掺杂类金刚石层和有机层。
9.根据权利要求8所述的OLED显示基板的制作方法，其特征在于，形成所述封装单元还包括：
形成限定结构；
形成所述氟掺杂类金刚石层和所述有机层包括：
在所述限定结构限定出的区域内形成所述氟掺杂类金刚石层和所述有机层。
10.根据权利要求9所述的OLED显示基板的制作方法，其特征在于，形成所述封装单元具体包括：
形成无机层；
在所述无机层上形成感光材料层；
对所述感光材料层进行曝光，显影后形成感光材料保留区域和感光材料去除区域，所述感光材料去除区域对应所述限定结构的形成区域；
沉积限定结构材料层，所述限定结构材料层的厚度小于所述感光材料层的厚度；
剥离所述感光材料保留区域的感光材料，位于所述感光材料去除区域的限定结构材料层被保留形成所述限定结构；
在所述无机层上、所述限定结构限定出的区域内形成所述氟掺杂类金刚石层；
在所述氟掺杂类金刚石层上、所述限定结构限定出的区域内形成所述有机层。
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