[发明专利]台系统和光刻设备在审
申请号: | 201810554117.2 | 申请日: | 2015-06-25 |
公开(公告)号: | CN108919606A | 公开(公告)日: | 2018-11-30 |
发明(设计)人: | G·纳齐博格鲁;S·考斯吉恩斯;F·J·J·范鲍克斯台尔;E·范德帕斯奇;A·奈斯特;L·索桑娜 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 王静 |
地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 驱动系统 传感器移动 可移动主体 偏转器系统 支撑件 光刻设备 扰动 光学传感器 偏转区域 传感器 台系统 反射 移动 | ||
1.一种台系统,包括:
基座框架(228),
框架(44),
隔离器,
衍射光栅(26),
主体(20),包括用于保持衬底(W)的衬底台(WT),
其中所述主体(20)具有其上布置有所述衬底(W)的第一侧面,
其中所述主体(20)具有与所述第一侧面相反且其上布置有所述衍射光栅(26)的第二侧面,
其中所述基座框架(228)通过所述隔离器支撑所述框架(44),
其中所述框架(44)被布置成支撑用于在所述衬底(W)上执行测量的测量仪器。
2.根据权利要求1所述的台系统,包括编码器头(24),该编码器头(24)被布置成产生代表所述编码器头(24)相对于所述衍射光栅(26)的位置的信号。
3.根据权利要求2所述的台系统,包括支撑件(48),其中所述框架(44)通过所述支撑件(48)支撑所述编码器头(24)。
4.根据权利要求3所述的台系统,其中所述支撑件(48)延伸越过所述支撑件(48)保持所述编码器头(24)所在的部位。
5.根据权利要求2-4中任一项所述的台系统,其中,所述编码器头(24)是1D编码器头、2D编码器头和3D编码器头中的一个。
6.根据权利要求2-5中任一项所述的台系统,包括防护装置(42),该防护装置(42)至少部分地包围所述编码器头(24),其中所述防护装置(42)具有用于容纳所述编码器头(24)的凹部。
7.根据权利要求6所述的台系统,其中所述编码器头(24)面对所述衍射光栅(26)的表面基本上位于与所述防护装置(42)面对衍射光栅(26)的表面相同的平面中。
8.根据权利要求6或7所述的台系统,包括另一隔离器(46),其中所述防护装置(42)通过所述另一隔离器(46)由所述框架(44)支撑。
9.根据权利要求2-8中任一项所述的台系统,其中所述编码器头(24)包括干涉仪。
10.根据权利要求2-9中任一项所述的台系统,包括用于朝向所述衍射光栅(26)提供气流的喷嘴。
11.根据权利要求10所述的台系统,包括包围所述编码器头(24)的一系列喷嘴。
12.根据权利要求2-11中任一项所述的台系统,包括被布置成相对于所述编码器头(24)移动所述主体(20)的驱动系统(56)。
13.根据权利要求12所述的台系统,包括另一驱动系统(52),其中所述驱动系统(56)布置成相对所述编码器头(24)沿第一方向移动所述主体(20),其中所述另一驱动系统(52)布置成沿着与所述第一方向不同的第二方向相对于所述编码器头(24)移动所述驱动系统(56)。
14.根据权利要求2-13中任一项所述的台系统,具有由壁(214)和衍射光栅(26)限定的空腔(28),
其中所述编码器头(24)位于所述空腔(28)的内部,
其中所述壁(214)能够相对于所述衍射光栅(26)移动。
15.一种光刻设备,包括根据前述权利要求中任一项所述的台系统。
16.根据权利要求15所述的光刻设备,具有两个根据权利要求1-14中任一项所述的台系统。
17.根据权利要求16所述的光刻设备,包括布置成将图案投影到所述衬底上的投影系统,其中两个所述台系统中的一个布置成移动所述衬底,其中两个所述台系统中的另一个布置成移动具有所述图案的图案形成装置。
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