[发明专利]投影系统的梯形校正方法及设备在审

专利信息
申请号: 201810556347.2 申请日: 2018-05-31
公开(公告)号: CN108924521A 公开(公告)日: 2018-11-30
发明(设计)人: 李通 申请(专利权)人: 晨星半导体股份有限公司
主分类号: H04N9/31 分类号: H04N9/31;G06T5/00
代理公司: 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 代理人: 何青瓦
地址: 中国台湾新竹县*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 投影系统 纹理映射 梯形校正 投射 影像 区域数据 纹理空间 指令 预设规则 申请 输出 分析
【权利要求书】:

1.一种投影系统的梯形校正方法,其特征在于,所述方法包括:

接收对投影系统所投射的影像进行梯形校正的指令;

分析该指令,获取欲调整后的纹理映射区域数据,以及投影系统所投射的影像对应的纹理空间数据,根据欲调整后的纹理映射区域数据及纹理空间数据,采用预设规则,对初始纹理映射区域进行调整,以得到调整后的纹理映射区域,在调整过程中同时进行纹理映射;以及

根据调整后的纹理映射区域,将纹理映射结果通过投影系统输出。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,分析该指令,获取欲调整后的纹理映射区域数据,以及投影系统所投射的影像对应的纹理空间数据,根据欲调整后的纹理映射区域数据及纹理空间数据,采用预设规则,对初始纹理映射区域进行调整,以得到调整后的纹理映射区域,在调整过程中同时进行纹理映射的步骤,进一步包括:

根据欲调整后的纹理映射区域数据对初始纹理映射区域进行划分,以得到多个子区域;

利用欲调整后的纹理映射区域数据及纹理空间数据获取调整因子;以及

利用调整因子,对多个子区域进行调整,以得到调整后的纹理映射区域,并针对子区域进行纹理映射。

3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述欲调整后的纹理映射区域数据为所述调整后的纹理映射区域的顶点坐标(x,y),所述纹理空间数据为与所述欲调整后的纹理映射区域的顶点坐标(x,y)对应的纹理坐标(u,v);

利用所述欲调整后的纹理映射区域数据及所述纹理空间数据获取调整因子的步骤,进一步包括:

利用所述欲调整后的纹理映射区域的顶点坐标(x,y)和所述纹理坐标(u,v),通过公式1计算得出转换矩阵以作为所述校正因子,其中,所述公式1为

4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,根据所述欲调整后的纹理映射区域数据对所述欲调整后的纹理映射区域进行划分,以得到多个子区域的步骤,进一步包括:

根据所述欲调整后的纹理映射区域的顶点坐标,将所述初始的纹理映射区域的边等分设置,以划分得到多个所述子区域。

5.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,所述利用所述调整因子,对多个所述子区域进行调整,以得到所述调整后的纹理映射区域的步骤,并针对子区域进行纹理映射的步骤,进一步包括:

获取所述纹理空间中与多个所述子区域的顶点对应的纹理坐标;

利用所述转换矩阵及公式1,获取所初始纹理映射区域中多个所述子区域对应在调整后的纹理映射区域中的顶点坐标,以得到所述调整后的纹理映射区域,并针对子区域进行纹理映射。

6.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,所述根据调整后的纹理映射区域,将纹理映射结果通过投影系统输出的步骤,进一步包括:

根据多个所述子区域的顶点坐标,以及与多个所述子区域的顶点对应的纹理坐标,对梯形校正的影像进行渲染,并通过所述投影系统输出梯形校正后的影像。

7.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,还包括:

分析所述指令,判断梯形校正后的影像在投影空间的四个顶点的偏移量是否在预设的有效偏移范围内;

在判断结果为是时,执行根据欲调整后的纹理映射区域数据对初始纹理映射区域进行划分,以得到多个子区域的步骤。

8.一种投影系统的梯形校正设备,其特征在于,所述设备包括:处理器及存储器,所述存储器中存储有投影系统的梯形校正程序,所述处理器耦接所述存储器,所述投影系统的梯形校正程序被调用时,所述处理器执行以下步骤:

接收对投影系统所投射的影像进行梯形校正的指令;

分析该指令,获取欲调整后的纹理映射区域数据,以及投影系统所投射的影像对应的纹理空间数据,根据欲调整后的纹理映射区域数据及纹理空间数据,采用预设规则,对初始纹理映射区域进行调整,以得到调整后的纹理映射区域,在调整过程中同时进行纹理映射;以及

根据调整后的纹理映射区域,将纹理映射结果通过投影系统输出。

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