[发明专利]涂布设备口金擦拭机构

说明书

本发明提供一种涂布设备口金擦拭机构，包括：传动装置、擦拭装置，以及导轨装置；擦拭装置包括支撑杆、设置于支撑杆端部的擦拭基座，支撑杆的相对另一端固定连接传送带；导轨装置包括相互平行设置的第一磁条和第二磁条，第一磁条与第二磁条之间分离设置形成间隙，支撑杆在第一磁条和第二磁条之间悬浮移动；有益效果为：本发明提供的涂布设备口金擦拭装置，用于支撑擦拭基座的支撑杆在磁轨内移动，减小了支撑与滑轨之间的摩擦力。

技术领域

本发明涉及涂布设备领域，尤其涉及一种涂布设备口金擦拭机构。

背景技术

涂布设备是液晶显示器制造行业的关键工艺设备之一，涂布设备的喷嘴是重要的精密部件，用于在基板表面涂布光阻液以形成均匀的光阻膜；由于光阻液的溶剂具有易挥发、易干燥凝结的特点，不可长时间暴露在外，因此，为避免涂布设备的口金处残留有光阻液而导致口金堵塞，成膜不佳造成产品不良，在口金吐出光阻液后需要对口金进行刮拭。

目前涂布设备使用的口金擦拭装置，将擦拭基座固定在皮带上，通过导轨的支撑，使得擦拭基座可以平稳地刮拭口金，达到清洁口金的目的；如图1、图2和图3所示，现有技术的口金擦拭装置，包括马达101、传送带102、轴承103，传送带102上固定设置有擦拭基座104，马达101运转带动传送带102移动，进而带动擦拭基座104移动；擦拭基座104连接有滑块105，滑块105可移动地与导轨106配合；由于现有擦拭装置使用的导轨106为滑块式，即使使用润滑油润滑，但滑块105与导轨106之间仍然存在一定的摩擦，而且导轨106易脏污，一定程度上也会影响导轨106的流畅性；因此，在口金擦拭装置长时间使用过程中，导轨106的磨损及脏污会加重马达101的负荷，另一方面，当皮带张力减小时，跳齿异常时有发生，一方面严重影响刮拭效果，导致产品不良，另一方面，跳齿会导致涂布设备宕机，严重影响产能。

综上所述，现有技术的涂布设备口金擦拭装置，擦拭基座使用的导轨为滑块式，滑块与导轨间的摩擦力大，且易脏污，会影响导轨的流畅性，进而影响刮拭效果。

发明内容

本发明提供一种涂布设备口金擦拭装置，擦拭基座采用磁轨式，减小了擦拭基座的与滑轨之间的摩擦力，以解决现有技术的涂布设备口金擦拭装置，擦拭基座使用的导轨为滑块式，滑块与导轨间的摩擦力大，影响导轨的流畅性，进而影响刮拭效果的技术问题。

为解决上述问题，本发明提供的技术方案如下：

本发明提供一种涂布设备口金擦拭机构，包括：

传动装置，包括马达、传送带以及用于支撑所述传送带的轴承；

擦拭装置，包括支撑杆、擦拭基座以及设置于所述擦拭基座顶部的擦拭棉，所述支撑杆的一端固定连接所述擦拭基座，所述支撑杆的相对另一端固定连接所述传送带；以及，

导轨装置，包括相互平行设置的第一磁条和第二磁条，所述第一磁条与所述第二磁条之间分离设置形成间隙，并且，所述支撑杆在所述第一磁条与所述第二磁条之间的间隙内移动；

其中，所述支撑杆为永磁杆，所述支撑杆具有至少一种磁极，所述第一磁条产生第一磁场，所述第二磁条产生第二磁场，所述第一磁场和所述第二磁场均与所述支撑杆相斥，使得所述支撑杆在所述第一磁条和所述第二磁条之间悬浮移动。

根据本发明一优选实施例，所述支撑杆具有一种磁极，所述第一磁条和所述第二磁条具有一种与所述支撑杆磁极相同的磁极。

根据本发明一优选实施例，所述支撑杆具有N磁极段以及与所述N磁极段极性相反的S磁极段，所述第一磁条和所述第二磁条均包括N磁极部分和S磁极部分，其中，所述第一磁条和所述第二磁条的N磁极部分对应所述支撑杆的N磁极段，所述第一磁条和所述第二磁条的S磁极部分对应所述支撑杆的S磁极段。

根据本发明一优选实施例，所述第一磁条与所述第二磁条相对于所述支撑杆对称设置。