[发明专利]基于MEMS技术的高效红外微菲涅尔透镜阵列制作方法有效
| 申请号： | 201810561408.4 | 申请日： | 2018-06-04 |
| 公开（公告）号： | CN108732660B | 公开（公告）日： | 2019-10-25 |
| 发明（设计）人： | 王焕焕;徐金国;费跃 | 申请（专利权）人： | 常州元晶电子科技有限公司 |
| 主分类号： | G02B3/00 | 分类号： | G02B3/00;G02B3/08 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 213000 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 菲涅尔透镜阵列 制作 晶圆表面 蚀刻 菲涅尔波带片 传感器领域 菲涅尔透镜 光刻胶图形 微机械加工 成像效率 工艺成本 衍射成像 衍射曝光 衍射图像 整体工艺 焦距 菲涅尔 光刻机 硅透镜 接收屏 衍射屏 晶圆 图样 显影 衍射 打磨 消耗 曝光 清洁 生产 | ||
【权利要求书】：
1.基于MEMS技术的高效红外微菲涅尔透镜阵列制作方法，其特征在于：它包括如下步骤，
a、利用菲涅尔衍射原理形成衍射图像的步骤；
b、制作衍射屏的步骤：在光刻版或金属板上设置若干透光的小孔阵列图形，小孔半径为L0并设置在透光石英板的上表面形成衍射屏；
c、制作接收屏的步骤：在硅圆片作为衬底的表面涂覆正性感光光刻胶形成接受屏，接受屏与衍射屏的距离为z；
d、曝光形成光刻胶图形的步骤：通过曝光的方式，使光从小孔阵列穿过并透过透光石英板后，在光刻胶上形成高低不平的图形；
e、蚀刻si圆片的步骤：利用Si的RIE刻蚀机台刻蚀Si圆片，把光刻胶的图形形状复制到Si上面；
f、清洁的步骤：清除剩余的光刻胶得到菲涅尔透镜阵列。
2.根据权利要求1所述的基于MEMS技术的高效红外微菲涅尔透镜阵列制作方法，其特征在于：所述的z为0.4mm。
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