[发明专利]显示基板母板及其制备方法和切割方法、显示基板及显示装置有效
申请号: | 201810564551.9 | 申请日: | 2018-06-04 |
公开(公告)号: | CN108717832B | 公开(公告)日: | 2020-04-24 |
发明(设计)人: | 刘陆;蔡宝鸣;杜双 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | G09F9/30 | 分类号: | G09F9/30;B23K26/38 |
代理公司: | 北京律智知识产权代理有限公司 11438 | 代理人: | 阚梓瑄;王卫忠 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 显示 母板 及其 制备 方法 切割 显示装置 | ||
1.一种显示基板母板,包括竖直方向上层叠设置的背膜、胶层、衬底基板、显示器件层以及保护膜;其特征在于,所述胶层包括第一胶层和分别邻设于所述第一胶层水平方向上的两侧的第二胶层,所述第一胶层与所述显示基板母板预设的切割位置对应,所述第一胶层与所述第二胶层之间设有阻光层,所述阻光层配置为使由所述第一胶层入射的光线经所述阻光层射入所述第二胶层后减少。
2.根据权利要求1所述的显示基板母板,其特征在于,所述阻光层为第一反光层;其中,所述第一胶层相比于所述第二胶层呈光密介质特性,所述第一反光层相比于所述第一胶层和所述第二胶层均呈光密介质特性。
3.根据权利要求2所述的显示基板母板,其特征在于,所述第二胶层与所述背膜之间设有第二反光层,所述第二反光层相比于所述第一胶层和所述第二胶层均呈光密介质特性。
4.根据权利要求3所述的显示基板母板,其特征在于,位于所述第一胶层一侧的所述第一反光层,与该侧的所述第二胶层下方的所述第二反光层为一体结构,并共同构成反光层。
5.根据权利要求1所述的显示基板母板,其特征在于,所述第一胶层为水平方向上间隔分布的多个,多个所述第一胶层分别对应于多个预设的切割位置。
6.一种显示基板母板的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
设置背膜;
对应预设的切割位置,在所述背膜上表面形成第一胶层;
在所述第一胶层两侧的侧壁分别形成阻光层;
在所述背膜上表面的未形成所述第一胶层和所述阻光层的区域形成第二胶层,所述第二胶层与所述第一胶层共同构成胶层并由所述阻光层分隔,所述阻光层配置为使由所述第一胶层入射的光线经所述阻光层射入所述第二胶层后减少;
在所述胶层远离所述背膜的一侧设置衬底基板;
在所述衬底基板远离所述背膜的一侧设置显示器件层;
在所述显示器件层远离所述背膜的一侧设置保护膜。
7.根据权利要求6所述的显示基板母板的制备方法,其特征在于,将所述第一胶层配置为相比于所述第二胶层呈光密介质特性,将所述阻光层配置为反光层,且所述反光层相比于所述第一胶层和所述第二胶层均呈光密介质特性。
8.根据权利要求7所述的显示基板母板的制备方法,其特征在于,所述反光层是通过等离子体增强化学气相沉积法溅射形成。
9.根据权利要求7所述的显示基板母板的制备方法,其特征在于,在形成所述第一胶层的步骤与形成所述反光层的步骤之间,还包括在所述第一胶层远离所述背膜的一侧形成保护层的步骤,且在形成所述反光层的步骤与形成所述第二胶层的步骤之间,还包括去除所述保护层的步骤。
10.一种显示基板母板的切割方法,其特征在于,所述显示基板母板的切割方法用于对权利要求1~5任一项所述的显示基板母板进行切割,且包括以下步骤:
利用激光对所述显示基板母板的所述第一胶层对应的切割位置进行切割。
11.一种显示基板,包括竖直方向上层叠设置的背膜、胶层、衬底基板、显示器件层以及保护膜;其特征在于,所述胶层包括第二胶层和分别邻设于所述第二胶层水平方向上的两侧的第一胶层,所述第一胶层与所述显示基板的边框区域对应,所述第一胶层与所述第二胶层之间设有阻光层,所述阻光层配置为使由所述第一胶层入射的光线经所述阻光层射入所述第二胶层后减少。
12.一种显示装置,其特征在于,所述显示装置包括权利要求11所述的显示基板。
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