[发明专利]一种陶瓷坯体喷釉工作台

说明书

本发明涉及陶瓷生产领域的设备，名称是一种陶瓷坯体喷釉工作台，包括台面，在台面上具有喷釉装置，喷釉时坯体放置在台面上，用喷釉装置可以对坯体进行喷釉；其特征是：所述的台面下面安装振动装置，所述的振动装置的产生的振幅是1—2毫米，频率是20—30赫兹，所述的振动装置还连接时间开关，所述的时间开关具有设定单元，设定单元设定的时间是20‑30秒，这样的陶瓷坯体喷釉工作台具有可以提高产品质量、使釉面更平整的优点。

技术领域

本发明涉及陶瓷生产领域的设备，具体地说是涉及陶瓷坯体喷釉工作台。

背景技术

陶瓷坯体喷釉工作台包括台面，在台面上具有喷釉装置，喷釉时坯体放置在台面上，用喷釉装置可以对坯体进行喷釉；现有技术中，台面下面没有振动装置，这样坯体就是在没有振动的情况下进行喷釉的，在喷釉后会在釉面上形成一些釉绺，难以摊铺均匀，由于喷釉后会形成一些釉绺，不利于釉面的平整，影响了釉面的效果。

发明内容

本发明的目的就是针对上述缺点，提供一种提高产品质量、釉面更平整的陶瓷坯体喷釉工作台。

本发明的目的是这样实现的：一种陶瓷坯体喷釉工作台，包括台面，在台面上具有喷釉装置，喷釉时坯体放置在台面上，用喷釉装置可以对坯体进行喷釉；其特征是：所述的台面下面安装振动装置，所述的振动装置连接开关。

进一步地讲，所述的振动装置的产生的振幅是1—2毫米，频率是20—30赫兹。

进一步地讲，所述的振动装置连接时间开关，所述的时间开关具有设定单元，设定单元设定的时间是20-30秒。

进一步地讲，所述的台面上具有一层软质材料层。

本发明的有益效果是：这样的陶瓷坯体喷釉工作台具有可以提高产品质量、釉面更平整的优点；

所述的振动装置的产生的振幅是1—2毫米，频率是20—30赫兹，所述的振动装置还连接时间开关，所述的时间开关具有设定单元，设定单元设定的时间是20-30秒，具有提高釉面平整效果更好的优点；

所述的台面上具有一层软质材料层，具有可以保护坯体的优点。

附图说明

图1是本发明的结构示意图。

其中：1、台面 2、喷釉装置 3、坯体 4、振动装置 5、软质材料层。

具体实施方式

下面结合附图对本发明作进一步的描述。

如图1所示，一种陶瓷坯体喷釉工作台，包括台面1，在台面上具有喷釉装置2，喷釉时坯体3放置在台面上，用喷釉装置可以对坯体进行喷釉；其特征是：所述的台面下面安装振动装置4，所述的振动装置连接开关。

这样本发明就可以实现在振动中喷釉，或喷釉后马上振动，使釉绺摊铺均匀，达到本发明的目的。

进一步地讲，所述的振动装置的工作的振幅是1—2毫米，频率是20—30赫兹。这样设置，对消除釉绺效果更好。

进一步地讲，所述的振动装置连接时间开关，所述的时间开关具有设定单元，设定单元设定的时间是20-30秒。这样设置，对消除釉绺效果更好。

进一步地讲，所述的台面上具有一层软质材料层5。这样可以减少振动时对坯体的损害，有利于保护坯体。

以上所述仅为本发明的具体实施例，但本发明的结构特征并不限于此，任何本领域的技术人员在本发明的领域内，所作的变化或修饰皆涵盖在本发明的专利范围内。