[发明专利]一种曝光系统、曝光方法和光刻机

权利要求书

1.一种曝光系统，其特征在于，包括照明单元、掩模版、投影物镜单元、基底和至少一个衍射光学元件，所述衍射光学元件设置在所述照明单元和/或所述投影物镜单元中，部分所述衍射光学元件设置在所述照明单元中靠近所述照明单元中的光阑的位置处，且所述衍射光学元件位于所述照明光束的光路中子孔径填充比例0.7≤1的位置处，用于校正色差；和/或部分所述衍射光学元件设置在所述投影物镜单元中靠近所述投影物镜单元中的光阑的位置处，且所述衍射光学元件位于所述照明光束的光路中子孔径填充比例0.7≤1的位置处，用于校正色差；和/或部分所述衍射光学元件设置在所述投影物镜单元中远离所述投影物镜单元中的光阑的位置处，且所述衍射光学元件设置于所述照明光束的光路中子孔径填充比例0.2≤≤0.7的位置处，用于校正像散；

所述照明单元用于提供照明光束，所述照明光束依次入射所述掩模版、所述投影物镜单元和所述基底后，将所述掩模版上的图形成像到所述基底上；

其中，所述衍射光学元件包括旋转对称的相位型衍射光学元件。

2.如权利要求1所述的曝光系统，其特征在于，至少一个所述衍射光学元件设置于所述照明光束的光路中离所述光阑最近的透镜上，且所述衍射光学元件设置于所述透镜上面向所述光阑的一面上。

3.如权利要求1所述的曝光系统，其特征在于，所述衍射光学元件的数量为一个，所述衍射光学元件设置在所述照明单元中靠近光阑的位置处。

4.如权利要求1所述的曝光系统，其特征在于，所述衍射光学元件的数量为两个，一个所述衍射光学元件设置在所述投影物镜单元中靠近光阑的位置处，另一个所述衍射光学元件设置在所述投影物镜单元中远离光阑的位置处。

5.如权利要求1所述的曝光系统，其特征在于，所述衍射光学元件的数量为三个，一个所述衍射光学元件设置在所述投影物镜单元中靠近光阑的位置处，一个所述衍射光学元件设置在所述投影物镜单元中远离光阑的位置处，另一个所述衍射光学元件设置在所述照明单元中靠近光阑的位置处。

6.一种基于权利要求1至3任一项所述的曝光系统的曝光方法，其特征在于，所述曝光方法包括：

将至少一个用于矫正所述曝光系统的色差或像散的所述衍射光学元件设置在所述照明单元和/或所述投影物镜单元中，并使部分所述衍射光学元件设置在所述照明单元中靠近所述照明单元中的光阑的位置处，和/或使部分所述衍射光学元件设置在所述投影物镜单元中靠近所述投影物镜单元中的光阑的位置处，和/或使部分所述衍射光学元件设置在所述投影物镜单元中远离所述投影物镜单元中的光阑的位置处；

所述照明单元提供照明光束；

所述照明光束依次入射所述掩模版、所述投影物镜单元和所述基底后，将所述掩模版上的图形成像到所述基底上。

7.一种光刻机，其特征在于，包括如权利要求1至5任一项所述的曝光系统。