[发明专利]一种防伪标签及该防伪标签的生成技术

权利要求书

1.一种防伪标签，其特征在于，所述防伪标签为一具有一定形状的膜层，膜层依次包括有第一TiO₂层、第一SiO₂层、第二TiO₂层、第二SiO₂层、第三TiO₂层、第三SiO₂层、第四TiO₂层、第四SiO₂层、第五TiO₂层、第五SiO₂层、第六TiO₂层、第六SiO₂层、第七TiO₂层、第七SiO₂层、第八TiO₂层、第八SiO₂层、第九TiO₂层、第九SiO₂层、第十TiO₂层、第十SiO₂层、第十一TiO₂层、第十一SiO₂层、第十二TiO₂层、第十二SiO₂层、第十三TiO₂层、第十三SiO₂层。

2.如权利要求1所述的防伪标签，其特征在于，所述第一TiO₂层的厚度为8.68纳米；第一SiO₂层的厚度为56.21纳米；第二TiO₂层的厚度为24.43纳米；第二SiO₂层的厚度为43.19纳米；第三TiO₂层的厚度为33.73纳米；第三SiO₂层的厚度为48.33纳米；第四TiO₂层的厚度为28.45纳米；第四SiO₂层的厚度为55.53纳米；第五TiO₂层的厚度为31.75纳米；第五SiO₂层的厚度为49.10纳米；第六TiO₂层的厚度为31.74纳米；第六SiO₂层的厚度为56.56纳米；第七TiO₂层的厚度为30.72纳米；第七SiO₂层的厚度为50.37纳米；第八TiO₂层的厚度为32.71纳米；第八SiO₂层的厚度为58.13纳米；第九TiO₂层的厚度为28.69纳米；第九SiO₂层的厚度为49.62纳米；第十TiO₂层的厚度为35.78纳米；第十SiO₂层的厚度为57.19纳米；第十一TiO₂层的厚度为19.73纳米；第十一SiO₂层的厚度为65.87纳米；第十二TiO₂层的厚度为33.19纳米；第十二SiO₂层的厚度为9.68纳米；第十三TiO₂层的厚度为68.61纳米；第十三SiO₂层的厚度为84.96纳米。

3.一种如权利要求1所述防伪标签的生成技术，其特征在于，利用带孔的遮挡物盖在产品上，利用真空蒸发镀膜技术，对着孔依次镀第一TiO₂层、第一SiO₂层、第二TiO₂层、第二SiO₂层、第三TiO₂层、第三SiO₂层、第四TiO₂层、第四SiO₂层、第五TiO₂层、第五SiO₂层、第六TiO₂层、第六SiO₂层、第七TiO₂层、第七SiO₂层、第八TiO₂层、第八SiO₂层、第九TiO₂层、第九SiO₂层、第十TiO₂层、第十SiO₂层、第十一TiO₂层、第十一SiO₂层、第十二TiO₂层、第十二SiO₂层、第十三TiO₂层、第十三SiO₂层，在产品上形成与孔的形状相同的膜层，去除遮挡物，完成产品上防伪标签的生成。