[发明专利]一种含浸机构

说明书

本发明公开了一种含浸机构，包括底座，所述底座的上端一体成型有密封板，且底座上安装由与密封板匹配固定的密封盖，所述密封板上等距滑动安装有限位柱，且限位柱的下端固定安装有配合轮，所述限位柱的上方一体成型有限位块，且密封盖上开设有与限位块匹配的配合孔。本发明设计含浸机构能够使得电芯在正压力环境和负压环境下不停转换，能够有效的使含浸液更加快速的深入电芯中，能够高效快速的完成电芯的含浸，而且含浸效率高、质量稳定能耗低，并且在含浸作业的过程中，该装置出与完全密封状态，含浸液不会渗出污染环境，含浸液也能够得到更充分的利用，因此具有很高的实用价值。

技术领域

本发明涉及电容器生产技术领域，特别涉及一种自动含浸制程中的机构,应用于铝电解电容器的电芯及一般常压难以浸透的含浸制程，使其做到负压及高正压的含浸制程达到高质量，高效率生产。

背景技术

含浸加工处理是采用一定的方法将含浸液体渗入所需要的物件中，使物件达到一定的特殊作用。含浸技术可广泛应用于制造电子元件，复合材料,以及其他多孔性材料的微孔渗透等等。

以往的含浸设备主要用于处理电容器、变压器线圈、复合材料等元件。采用的方式是将电容器芯快速含浸的方式,但是存在含浸时间长,效率低,质量不稳定,耗能高、含浸液浪费多、易造成二次污染等问题。

如果能够发明一种能够用负压及正压的压力差使含浸效率提高，降低含浸液浪费的新型含浸设备就能够解决此类问题，为此我们提供了一种含浸机构。

发明内容

本发明的目的在于提供一种含浸机构，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种含浸机构，包括底座，所述底座的上端一体成型有密封板，且底座上安装由与密封板匹配固定的密封盖，所述密封板上等距滑动安装有限位柱，且限位柱的下端固定安装有配合轮，所述限位柱的上方一体成型有限位块，且密封盖上开设有与限位块匹配的配合孔，所述配合轮的外侧啮合安装有与底座同心的齿圈，且密封盖的下方设置有置物架，所述底座的下方固定安装有支撑板，且支撑板上安装有用于驱动齿圈的驱动电机，所述底座的上方设置有含浸槽，且底座上设置有连通外部真空泵和含浸槽的换气装置，所述底座上固定安装有连通含浸槽的换液管道，且换液管道的末端连接外部含浸液供应泵。

优选的，所述限位块的截面为腰形或者矩形。

优选的，所述密封板上至少等距设置有两个限位柱，且配合轮与齿圈的内齿轮啮合连接。

优选的，所述置物架的上方一体成型有呈等距布置的置料单元格，且置料单元格的外侧设置有进液孔。

与现有技术相比，本发明的有益效果是：本发明设计含浸机构能够使得电芯在正压力环境和负压环境下不停转换，能够有效的使含浸液更加快速的深入电芯中，能够高效快速的完成电芯的含浸，而且含浸效率高、质量稳定能耗低，并且在含浸作业的过程中，该装置出与完全密封状态，含浸液不会渗出污染环境，含浸液也能够得到更充分的利用，因此具有很高的实用价值。

附图说明

图1为本发明的结构爆炸示意图；

图2为本发明的剖切示意图；

图3为本发明底座的结构示意图；

图4为本发明的装配示意图。

图中：1密封盖、2配合孔、3限位柱、4密封板、5置物架、6齿圈、7配合轮、8底座、9支撑板、10换液管道、11换气管道、12驱动电机、13含浸槽、14限位块。

具体实施方式