[发明专利]像差测量装置及方法

权利要求书

1.一种像差测量装置，其特征在于，包括：沿空间由上至下顺次分布的对准照明单元、掩模标记单元、待测投影物镜单元以及掩模对准单元，所述掩模对准单元包括至少两个相同的X向和/或Y向探测器，两个相同的X向和/或Y向探测器之间的间距为第一间距；所述掩模标记单元包括至少两个X向和/或Y向标记，所述两个X向和/或Y向标记之间的间距为第二间距；两个相同的X向和/或Y向探测器用于同时对标记进行测量，并基于X向和/或Y向上相邻两个标记的X向和/或Y向位置差值以及Z向位置差值，计算得到物镜视场预定向V线条或H线条的畸变和场曲；

计算所述物镜视场预定向的畸变的公式如下：

DT0＝0；

DT1＝DT0+x1；

DT2＝DT1+x2；

…

DTn＝DT(n-1)+xn；

其中，DT0为X向畸变初始值，DT1为X向第一个相邻两个标记的畸变，DT2为X向第二个相邻两个标记的畸变，DTn为X向第n个相邻两个标记的畸变，n为大于2的正整数；x1为第一标记和第二标记的X向位置差值，x2为第二标记和第三标记的X向位置差值，xn为第n标记和第(n+1)标记的X向位置差值；

计算所述物镜视场预定向的场曲的公式如下：

FC0＝0；

FC1＝FC0+z1；

FC2＝FC1+z2；

…

FCn＝FC(n-1)+zn；

其中，FC0为X向场曲初始值，FC1为X向第一个相邻两个标记的场曲，FC2为X向第二个相邻两个标记的场曲，FCn为X向第n个相邻两个标记的场曲，n为大于2的正整数；z1为第一标记和第二标记的Z向位置差值，z2为第二标记和第三标记的Z向位置差值，zn为第n标记和第(n+1)标记的Z向位置差值。

2.如权利要求1所述的像差测量装置，其特征在于，所述第一间距与所述第二间距的数值比例为m，m为待测投影物镜单元的物镜倍率。

3.如权利要求1所述的像差测量装置，其特征在于，所述掩模标记单元中的标记与所述掩模对准单元中的探测器的尺寸比例为m，m为待测投影物镜单元的物镜倍率。

4.一种像差测量的方法，采用如权利要求1至3中任一项所述的像差测量装置，其特征在于，包括如下步骤：

S1：掩模标记单元移动至待测投影物镜单元的视场中心位置；

S2：掩模对准单元测量掩模标记单元的预定向上所有标记在预定向位置和Z向位置，并计算预定向上相邻两个标记的预定向位置差值和Z向位置差值，所述预定向为X向和/或Y向；

S3：根据预定向上所有相邻两个标记的预定向位置差值和Z向位置差值得到物镜视场预定向V线条或H线条的畸变和场曲。

5.如权利要求4所述的像差测量的方法，其特征在于，所述预定向为X向时，所述掩模对准单元包括两个相同的X向探测器，两个相同的X向探测器同时测量所述测量掩模标记单元的预定向上的标记的X向位置和Z向位置。

6.如权利要求4所述的像差测量的方法，其特征在于，所述预定向为Y向时，所述掩模对准单元包括两个相同的Y向探测器，两个相同的Y向探测器同时测量所述测量掩模标记单元的预定向上的标记的Y向位置和Z向位置。

7.如权利要求4所述的像差测量的方法，其特征在于，S3中，根据预定向上所有相邻两个标记的预定向位置差值和Z向位置差值得到物镜视场预定向V线条的畸变过程如下：

基于预定向各个相邻两个标记的预定向位置差值计算对应相邻两个标记的物镜视场预定向的畸变，根据预定向所有相邻两个标记的物镜视场预定向的畸变获得物镜视场预定向V线条畸变。