[发明专利]显示面板及其制作方法、显示模组、电子装置有效

专利信息
申请号: 201810579425.0 申请日: 2018-06-07
公开(公告)号: CN108832017B 公开(公告)日: 2020-06-16
发明(设计)人: 涂昕 申请(专利权)人: 武汉华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: H01L51/52 分类号: H01L51/52;H01L23/00;H01L51/56
代理公司: 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 代理人: 黄威
地址: 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 显示 面板 及其 制作方法 模组 电子 装置
【权利要求书】:

1.一种显示面板,其特征在于,包括:

衬底;

发光层,形成于所述衬底上;

封装层,形成于所述发光层上;

挡墙组,形成于所述衬底上,且被所述封装层覆盖,

所述挡墙组包括第一挡墙和第二挡墙,所述第一挡墙包括靠近所述衬底的第一底面、背离所述衬底的第一顶面、以及连接所述第一底面和所述第一顶面的第一侧面;其中,所述第二挡墙覆盖所述第一顶面的至少一部分和所述第一侧面的至少一部分;

所述挡墙组还包括第三挡墙,所述第一挡墙、所述第二挡墙、以及所述第三挡墙的高度依次增加,且形成呈上升的阶梯状结构。

2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述第一侧面为所述第一挡墙靠近或背离所述发光层的一侧表面。

3.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述第二挡墙覆盖所述第一顶面的一部分和所述第一侧面。

4.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述第一顶面的宽度小于或等于所述第一底面的宽度。

5.根据权利要求4所述的显示面板,其特征在于,所述第一侧面为平面或者曲面。

6.根据权利要求5所述的显示面板,其特征在于,所述第二挡墙包括相对设置的第二底面和第二顶面、以及连接所述第二底面和所述第二顶面的第二侧面,其中,所述第二底面覆盖所述第一顶面的一部分和所述第一侧面,所述第二顶面的宽度小于所述第二底面的宽度,所述第二侧面为平面或者曲面。

7.根据权利要求6所述的显示面板,其特征在于,所述第三挡墙包括相对设置的第三底面和第三顶面、以及连接所述第三底面和所述第三顶面的第三侧面,其中,所述第三底面覆盖所述第二顶面的一部分和所述第二侧面,所述第三顶面的宽度小于所述第三底面的宽度,所述第三侧面为平面或者曲面。

8.根据权利要求7所述的显示面板,其特征在于,所述显示面板具有显示区域和非显示区域,所述发光层设置于所述显示区域内,所述第一挡墙、所述第二挡墙以及所述第三挡墙设置于所述显示区域边缘的发光层与所述非显示区域之间。

9.一种显示面板的制作方法,其特征在于,包括以下步骤:

S10,在一衬底上形成平坦化层和第一挡墙,所述平坦化层和所述第一挡墙通过同一第一构图工艺制作,其中,所述第一挡墙包括靠近所述衬底的第一底面、背离所述衬底的第一顶面、以及连接所述第一底面和所述第一顶面的第一侧面,所述第一顶面的宽度小于所述第一底面的宽度;

S20,在所述衬底上形成像素定义层和第二挡墙,所述像素定义层和所述第二挡墙通过同一第二构图工艺制作,其中,所述第二挡墙包括相对设置的第二底面和第二顶面、以及连接所述第二底面和所述第二顶面的第二侧面,所述第二底面覆盖所述第一顶面的一部分和所述第一侧面,所述第二顶面的宽度小于所述第二底面的宽度;

S40,在所述衬底上形成发光层;

S50,在所述发光层上形成封装层,所述封装层覆盖所述发光层、所述第一挡墙和所述第二挡墙;

在所述S40之前还包括:S30,在所述衬底上形成支撑垫和第三挡墙,所述支撑垫和所述第三挡墙通过同一第三构图工艺制作,其中,所述第三挡墙包括相对设置的第三底面和第三顶面、以及连接所述第三底面和所述第三顶面的第三侧面,其中,所述第三底面覆盖所述第二顶面的一部分和所述第二侧面,所述第三顶面的宽度小于所述第三底面的宽度;

其中,所述第一挡墙、所述第二挡墙、以及所述第三挡墙的高度依次增加,且形成呈上升的阶梯状结构。

10.根据权利要求9所述的显示面板的制作方法,其特征在于,所述第二构图工艺的掩模板相对于所述第一构图工艺的掩模板进行偏移,所述第三构图工艺的掩模板相对于所述第一构图工艺和所述第二构图工艺的掩模板进行偏移。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉华星光电半导体显示技术有限公司,未经武汉华星光电半导体显示技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810579425.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top