[发明专利]回旋加速器及其控制方法

权利要求书

1.一种回旋加速器，其包括：

加速腔室；

真空系统，所述真空系统与所述加速腔室流动连通，并配置成抽空所述加速腔室；

离子源系统，所述离子源系统配置成将带电粒子提供至所述加速腔室；

配置成引导由所述带电粒子形成的粒子束的电场系统和磁场系统，所述粒子束沿所述加速腔室内的束路径被引导；以及

控制系统，所述控制系统配置成确定当所述粒子束沿所述束路径被引导时的至少一个操作参数，所述至少一个操作参数与所述加速腔室内的气体分子的量关联，所述控制系统配置成：

基于所述至少一个操作参数降低对所述粒子束的所述带电粒子的供应，在降低所述带电粒子的供应之后，所述粒子束继续沿所述束路径被引导，以及

在预定的时段之后和/或响应于基于所述至少一个操作参数确定所述气体分子的量已经减小，提高对所述粒子束的所述带电粒子的供应。

2.根据权利要求1所述的回旋加速器，其中，降低所述带电粒子的供应包括将所述带电粒子的供应降低至少20%。

3.根据权利要求1所述的回旋加速器，其中，所述控制系统配置成根据计划的操作模式操作所述回旋加速器，当降低所述带电粒子的供应时，所述控制系统中断所述计划的操作模式。

4.根据权利要求1所述的回旋加速器，其中，由所述控制系统降低或提高所述带电粒子的供应中的至少一个基于最近已经被替换的所述回旋加速器的一个或多个零件，所述控制系统执行检测已经被替换的所述一个或多个零件或者接收指示所述一个或多个零件已经被替换的用户输入中的至少一个。

5.根据权利要求1所述的回旋加速器，其中，所述至少一个操作参数包括以下当中的至少一个：所述加速腔室的腔室压力、离子源电流、沿着或靠近所述束路径检测的一个或多个束电流、所述粒子束的束轮廓或束质量因数。

6.根据权利要求1所述的回旋加速器，其中，所述操作参数包括所述加速腔室的腔室压力或引出系统处的束电流中的至少一个。

7.根据权利要求1所述的回旋加速器，其中，由所述控制系统降低或提高所述带电粒子的供应包括改变以下当中的至少一个：所述离子源系统的电流、所述离子源系统的电压、所述离子源系统中气体的压力或所述离子源系统中所述气体的流量。

8.根据权利要求1所述的回旋加速器，其中，在第一次降低所述带电粒子的供应之后，所述控制系统配置成响应于在第一次降低所述带电粒子的供应之后确定所述操作参数基本上没有变化，第二次降低所述带电粒子的供应。

9.根据权利要求1所述的回旋加速器，还包括用户界面，所述用户界面配置成通知所述回旋加速器的用户所述回旋加速器以所述带电粒子的减小的供应操作。

10.根据权利要求1所述的回旋加速器，还包括用户界面，所述用户界面配置成接收用户输入，所述控制系统配置成基于所述用户输入覆盖基于所述至少一个操作参数降低所述带电粒子的供应。

11.一种回旋加速器，其包括：

加速腔室；

真空系统，所述真空系统与所述加速腔室流动连通，并配置成抽空所述加速腔室；

离子源系统，所述离子源系统配置成将带电粒子提供至所述加速腔室；

配置成引导由所述带电粒子形成的粒子束的电场系统和磁场系统，所述粒子束配置成沿所述加速腔室内的束路径被引导；以及

控制系统，所述控制系统配置成当所述粒子束沿所述束路径被引导时，确定所述加速腔室的腔室压力，所述控制系统配置成：

响应于确定所述腔室压力过大，降低所述带电粒子到所述加速腔室的供应；以及

响应于确定所述腔室压力已经减小到可接受值，提高所述带电粒子到所述加速腔室的供应。

12.根据权利要求11所述的回旋加速器，其中，降低所述带电粒子的供应包括将所述带电粒子的供应降低至少20%。