[发明专利]高分子加工装置的改良构造

权利要求书

1.一种高分子加工装置的改良构造，它包括：

一转动件，能以一虚拟轴为中心地进行角位移；

多数的挟模机构与一原料供给单元，以该虚拟轴为中心地分列于该转动件的周侧；

多数的模具，能接收由该原料供给单元所供给的原料，并能分受所述挟模机构所提供的锁模力进行挟模，使所接收的原料在受模制而成型；

其特征在于：

所述挟模机构能在该转动件外对所述模具施加锁模力；

以及，更包含有：

一进退单元，设于该转动件上而可随该转动件进行角位移，并具有一连结件，能在一进座位置与一退座位置间往复地移动，一驱动件提供该连结件进行往复位移所需的动力，一导部，延伸于所述进座位置与所述退座位置间，一滑动部滑设于所述导部上，以受该导部的导引而在该进座位置与该退座位置间往复位移，并使所述连结件设于所述滑动部上，以与所述模具个别的预定部位结合；

藉此，当该连结件位于该进座位置上时，自该转动件往外突伸，以伸入该原料供给单元或所述挟模机构中，与位于该原料供给单元或所述挟模机构中的模具结合，并使所结合的模具得以随该连结件移动至该退座位置，而自原所在位置移出该原料供给单元或所述挟模机构外，且得与该进退单元同随该转动件进行角位移。

2.如权利要求1所述高分子加工装置的改良构造，其特征在于，所述进退单元更包含一座部，固设于所述转动件上，并供所述导部设置。

3.如权利要求2所述高分子加工装置的改良构造，其特征在于，所述导部具有二平行轨条，彼此相隔开来地分设于所述座部上。

4.如权利要求3所述高分子加工装置的改良构造，其特征在于，所述滑动部具有二滑块，分别滑设于所述轨条上，一滑座桥设于所述滑块上。

5.如权利要求1所述高分子加工装置的改良构造，其特征在于，所述连结件具有一卡体，突设于所述滑动部上，以与模具相卡接。

6.如权利要求1所述高分子加工装置的改良构造，其特征在于，所述连结件沿所述虚拟轴的径向在所述进座位置与所述退座位置间做直线的往复位移。

7.如权利要求1所述高分子加工装置的改良构造，其特征在于，所述驱动件为流体压力缸。

8.如权利要求1所述高分子加工装置的改良构造，其特征在于，所述进退单元的数量为复数，所述进退单元彼此间以所述虚拟轴为中心地分别相隔一预定的角度。

9.如权利要求1所述高分子加工装置的改良构造，其特征在于，所述转动件具有一转盘，承载所述进退单元，并能以所述虚拟轴为中心进行角位移。