[发明专利]显示基板母板及其制作方法、和显示装置在审
申请号: | 201810595868.9 | 申请日: | 2018-06-11 |
公开(公告)号: | CN108807480A | 公开(公告)日: | 2018-11-13 |
发明(设计)人: | 赵攀;蒋志亮;王格;毛明 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | H01L27/32 | 分类号: | H01L27/32;H01L21/77 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人: | 许静;黄灿 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 显示基板 母板 显示装置 显示元件 制作 衬底基板 封装薄膜 切割区域 使用寿命 显示区 减薄 水氧 切割 覆盖 | ||
1.一种显示基板母板的制作方法,其特征在于,包括:
在衬底基板上形成显示元件后,在形成覆盖所述显示元件的封装薄膜之前,减薄所述显示基板母板的切割区域的厚度。
2.根据权利要求1所述的显示基板母板的制作方法,其特征在于,在形成所述显示元件后,所述切割区域的膜层依次包括位于所述衬底基板上的阻隔层、缓冲层、栅极绝缘层和层间绝缘层,所述减薄所述显示基板母板的切割区域的厚度,包括:
通过刻蚀工艺去除所述切割区域内的所述栅极绝缘层、所述层间绝缘层和部分所述缓冲层。
3.根据权利要求2所述的显示基板母板的制作方法,其特征在于,所述减薄所述显示基板的切割区域的厚度,还包括:
通过刻蚀工艺去除剩余的所述缓冲层和部分所述阻隔层。
4.根据权利要求1所述的显示基板母板的制作方法,其特征在于,所述衬底基板为柔性衬底基板。
5.一种显示基板母板,其特征在于,包括位于衬底基板上的多个显示元件和位于相邻显示元件之间的切割区域,所述切割区域的膜层厚度小于预设阈值。
6.根据权利要求5所述的显示基板母板,其特征在于,所述显示基板母板还包括位于所述显示元件和所述切割区域之间的边框区域,所述切割区域的膜层的厚度小于所述边框区域的膜层的厚度。
7.根据权利要求6所述的显示基板母板,其特征在于,所述边框区域的膜层依次包括位于所述衬底基板上的阻隔层、缓冲层、栅极绝缘层、层间绝缘层和封装薄膜,所述切割区域的膜层包括位于所述衬底基板上的部分所述阻隔层和所述封装薄膜。
8.根据权利要求7所述的显示基板母板,其特征在于,所述显示基板母板还包括位于所述边框区域和所述切割区域之间的预留区域,所述预留区域的膜层依次包括位于所述衬底基板上的阻隔层、缓冲层和封装薄膜。
9.根据权利要求5所述的显示基板母板,其特征在于,所述衬底基板为柔性衬底基板。
10.一种显示基板,其特征在于,所述显示基板为如权利要求5-9中任一项所述的显示基板母板切割而成。
11.一种显示装置,其特征在于,包括如权利要求9所述的显示基板。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的