[发明专利]一种晶圆级光学元件及其制备方法

权利要求书

1.一种晶圆级光学元件，包括至少一个光学元件模块，所述光学元件模块包括基板和在基板上形成的若干个光学元件，各光学元件具有透光区和非透光区，非透光区环绕透光区周围，非透光区包括第一阻光层和第二阻光层，第一阻光层位于基板和光学元件之间，第一阻光层为具有阻光性能的光刻胶通过光刻工艺形成，第二阻光层位于不接触基板的光学元件表面，非透光区中的第一阻光层与其所处光学元件的透光区相邻，第二阻光层在基板的竖直投影与第一阻光层相接合或至少部分重叠。

2.根据权利要求1所述的一种晶圆级光学元件，其特征在于：基板为允许光透射的透明材料构成。

3.根据权利要求1所述的一种晶圆级光学元件，其特征在于：第二阻光层通过喷涂、涂墨、丝网印刷中的一种或几种形成。

4.根据权利要求1所述的一种晶圆级光学元件，其特征在于：在第二阻光层上形成有支撑结构。

5.一种晶圆级光学元件的制备方法，包括以下步骤：

一、提供清洁的基板，将第一阻光层分布在基板表面；

二、对步骤一中形成的第一阻光层使用光刻法以具有预定图案的掩模进行图案曝光并显影，以形成图案化的第一阻光层；

三、将构成光学元件的模制材料分布在步骤二中第一阻光层图案化的基板上，利用模具将光学元件模制材料在基板上压制成型，得到具有预期形状的光学元件；

四、在光学元件边缘形成第二阻光层，第二阻光层在基板的竖直投影与第一阻光层相接合或至少部分重叠。

6.根据权利要求5所述的一种晶圆级光学元件的制备方法，其特征在于：上述制备方法步骤一中，第一阻光层与对应的基板之间使用助黏剂，助黏剂为水溶性材料。

7.根据权利要求5所述的一种晶圆级光学元件的制备方法，其特征在于：步骤三中，在模具上设置有对应所需光学元件数量的凹陷部分，当模具压至基板上的模制材料时，模制材料变形为对应凹陷部分的形状，移除模具后，得到具有预期形状的光学元件。

8.根据权利要求5所述的一种晶圆级光学元件的制备方法，其特征在于： 第二阻光层通过喷涂、涂墨、丝网印刷中的一种或几种形成。

9.根据权利要求5所述的一种晶圆级光学元件的制备方法，其特征在于：还包括步骤五：在第二阻光层上形成支撑结构。