[发明专利]一种亲疏水交互分布微结构表面制备方法

权利要求书

1.一种亲疏水交互分布微结构表面制备方法，其特征在于工艺过程为：首先，使用电子束刻蚀设定图案的光掩膜，将光掩膜覆盖在单晶硅表面，使用等离子体在单晶硅表面刻蚀出深度为10微米或20微米的圆柱形图案，以刻蚀后的单晶硅表面为阴模，通过翻模获得疏水性有机硅微结构表面；然后，在真空条件下，对疏水性有机硅微结构表面进行5-10分钟的等离子体活化处理，接着在疏水性有机硅微结构表面滴加盐酸双氧水溶液，并覆盖一层憎水性液体，2-15分钟后，用溶剂冲洗疏水性有机硅微结构表面并用氮气吹干；最后，在疏水性有机硅微结构表面滴加水凝胶溶液，待水凝胶溶液固化后，获得亲疏水交互分布的微结构表面；所述水凝胶溶液为聚丙烯酰胺、聚丙烯酸、琼脂、聚乙烯醇、海藻酸或海藻酸钠未凝胶前的水溶液。

2.根据权利要求1所述的亲疏水交互分布微结构表面制备方法，其特征在于所述等离子体活化处理的条件包括：电压为1.0-3.0V，电流为0.4-2A。

3.根据权利要求1所述的亲疏水交互分布微结构表面制备方法，其特征在于所述盐酸双氧水溶液是质量百分比浓度为37％盐酸、质量百分比浓度为30％双氧水与水按照1:1:5的质量比配制而成。

4.根据权利要求1所述的亲疏水交互分布微结构表面制备方法，其特征在于所述憎水性液体为二甲基硅油、甲基苯基硅油、柴油、汽油、液体石蜡、氯化石蜡、植物油和氟醚油中的一种或几种的组合。

5.根据权利要求1所述的亲疏水交互分布微结构表面制备方法，其特征在于所述溶剂为蒸馏水、丙酮、甲苯、乙醇、石油醚和乙醚中的一种或几种的组合。

6.根据权利要求1所述的亲疏水交互分布微结构表面制备方法，其特征在于制备的亲疏水交互分布微结构表面为结构规整的亲疏水交互分布微观阵列。