[发明专利]一种位移测量系统及测量方法在审
申请号: | 201810602932.1 | 申请日: | 2018-06-12 |
公开(公告)号: | CN108931192A | 公开(公告)日: | 2018-12-04 |
发明(设计)人: | 侯昌伦;李泾渭;辛青;臧月 | 申请(专利权)人: | 杭州电子科技大学 |
主分类号: | G01B11/02 | 分类号: | G01B11/02 |
代理公司: | 杭州君度专利代理事务所(特殊普通合伙) 33240 | 代理人: | 朱月芬 |
地址: | 310018 浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 衍射 透镜 位移测量系统 针孔 光探测器 测量 透镜组 光源 测量系统结构 高精度测量 传感领域 光学知识 光轴方向 精度位移 透镜组成 依次布置 面形 应用 | ||
1.一种位移测量系统,其特征在于:包括光源、谐衍射Alvarez透镜组、针孔和光探测器;
所述的谐衍射Alvarez透镜组,由面形互补的第一谐衍射Alvarez透镜和第二谐衍射Alvarez透镜组成,所述光源、第一谐衍射Alvarez透镜、第二谐衍射Alvarez透镜、针孔以及光探测器沿光轴方向依次布置;
所述的第二谐衍射Alvarez透镜沿垂直于光轴方向移动,来调整所述谐衍射Alvarez透镜组焦距;
所述的针孔,用于透过所述谐衍射Alvarez透镜组射出会聚光;所述的光探测器,用于探测从所述针孔透过的光能量;
所述的谐衍射Alvarez透镜包含一个基面和一个工作面,第一谐衍射Alvarez透镜和第二谐衍射Alvarez透镜面形互补;
其中所述的每个谐衍射Alvarez透镜的工作面由Alvarez透镜切割得到;其中Alvarez透镜的表面多项式方程为:
其中A表示为多项式系数;
Alvarez透镜产生焦距f为:
2δ为两个Alvarez透镜之间的移动的距离,n为Alvarez透镜的材料折射率;
Alvarez透镜的相位差与光程差的关系是:
其中为相位差,λ为波长,Δδ为光程差;
将Alvarez透镜去除相位差为2π的整数m倍,剩余的部分便是光程差为2π的m倍的谐衍射Alvarez透镜组的工作面;m≥2;
所述的谐衍射Alvarez透镜组的基面满足光程差为2π的m倍。
2.如权利要求1所述的一种位移测量系统,其特征在于,在所述光源与谐衍射Alvarez透镜组之间设有准直透镜,用于将所述光源发射的发射光变成平行光后射出。
3.如权利要求1所述的一种位移测量系统,其特征在于,所述光源为激光器或LED。
4.如权利要求1所述的一种位移测量系统,其特征在于,所述光探测器替换为光功率计。
5.一种利用权利要求1~4任一所述的一种位移测量系统的测量方法,包括以下步骤:
将被测对象固定在第二谐衍射Alvarez透镜的基面上,所述光源、准直透镜、第一谐衍射Alvarez透镜、第二谐衍射Alvarez透镜、针孔以及光探测器沿光轴方向依次布置;
根据透过针孔的光能量计算得到第一谐衍射Alvarez透镜与第二谐衍射Alvarez透镜的相对位移,该位移为被测对象的位移。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于杭州电子科技大学,未经杭州电子科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810602932.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。