[发明专利]一种调光隔热玻璃基板及其制备工艺有效

专利信息
申请号: 201810609199.6 申请日: 2018-06-13
公开(公告)号: CN108825078B 公开(公告)日: 2019-08-27
发明(设计)人: 秦世明;赵光勇;赵洁 申请(专利权)人: 浙江西溪玻璃有限公司
主分类号: C03C17/28 分类号: C03C17/28;C08J7/04
代理公司: 杭州杭诚专利事务所有限公司 33109 代理人: 尉伟敏
地址: 313200 浙江省*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 单向导热层 导电浆层 隔热玻璃 调光 基板 密闭空腔 制备工艺 聚酰亚胺薄膜 电导率 玻璃领域 基体表面 碱性液体 铜掺杂 空腔
【权利要求书】:

1.一种调光隔热玻璃基板,其特征在于,所述调光隔热玻璃基板由内基体、单向导热层、导电浆层和外基体组成,内基体和外基体形成之间形成一个密闭空腔,在密闭空腔内的内基体表面设置单向导热层,单向导热层与外基体之间的空腔设置导电浆层,其中:

单向导热层为铜掺杂的聚酰亚胺薄膜;

导电浆层为电导率为10~50ms/m的碱性液体。

2.根据权利要求1所述的一种调光隔热玻璃基板,其特征在于,所述内基体为石英玻璃,外基体为高纯度二氧化硅玻璃。

3.根据权利要求1所述的一种调光隔热玻璃基板,其特征在于,所述单向导热层厚度为300~2000μm。

4.根据权利要求3所述的一种调光隔热玻璃基板,其特征在于,所述单向导热层中铜的掺杂形态为尖部朝向散热层的锥形纳米铜结构。

5.根据权利要求1所述的一种调光隔热玻璃基板,其特征在于,所述导电浆层为电导率为10~50ms/m的氢氧化钠溶液。

6.一种如权利要求1或2或3或4或5所述的调光隔热玻璃基板的制备工艺,其特征在于,所述制备工艺包括以下制备步骤:

1)将内基体置于3-氨丙基三乙氧基硅烷和3-氨丙基三甲氧基硅氧烷的混合液进行活化处理,得到活性化内基体;

2)将磁性淀粉微球配制成悬浮液,将步骤1)所得的活性化内基体置于悬浮液中,并在外加磁场的情况下进行沉积,得到表面沉积有磁性淀粉微球的内基体;

3)在步骤2)所得沉积有磁性淀粉微球的内基体面上涂覆聚酰胺溶液,流延成膜后置于高温环境中进行亚酰化反应并去除磁性淀粉微球,在表面形成具备丰富多孔结构聚酰亚胺薄膜的内基体;

4)将步骤3)所得在表面形成具备丰富多孔结构聚酰亚胺薄膜的内基体置于含铜电沉积液中进行电沉积,并外加磁场,磁场方向为由基体指向聚酰亚胺薄膜的方向,电沉积结束后得到表面设有铜掺杂的聚酰亚胺薄膜的基体;

5)将步骤4)所得表面设有铜掺杂的聚酰亚胺薄膜的内基体和外基体置于3-氨丙基三乙氧基硅烷和3-氨丙基三甲氧基硅氧烷的混合液进行活化处理,得到活化复合内基体和活化外基体;

6)将步骤5)所得活化复合内基体和活化外基体置于电导率为10~50ms/m的氢氧化钠溶液进行压合,压合后取出置于120~150℃条件下热压,使得活化复合内基体和活化外基体紧密贴合,得到调光隔热玻璃基板。

7.根据权利要求6所述的一种调光隔热玻璃基板的制备工艺,其特征在于,步骤1)和步骤5)所述混合液中3-氨丙基三乙氧基硅烷和3-氨丙基三甲氧基硅氧烷的质量比为1:(0.7~1.1),两者相加的总质量浓度为35~45wt%。

8.根据权利要求6所述的一种调光隔热玻璃基板的制备工艺,其特征在于,步骤3)所述亚酰化反应温度为200~220℃。

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