[发明专利]一种具有缓冲工艺气体的基座

权利要求书

1.一种具有缓冲工艺气体的基座，包括底板（1）、外圆筒（10）、内圆筒（11）、顶板（2）和圆筒卡板（20），所述顶板（2）的顶端中间开设有喷气孔（21），其特征在于：所述底板（1）的顶端固定连接有外圆筒（10）和内圆筒（11），且内圆筒（11）穿插在外圆筒（10）的内腔中，所述外圆筒（10）的侧壁上开设有若干个螺纹通孔（100），所述顶板（2）的底端固定连接圆筒卡板（20），所述圆筒卡板（20）的外侧壁上开设有多个螺纹槽（200），所述外圆筒（10）的内侧壁和内圆筒（11）的外侧壁之间组成卡位槽（12），所述卡位槽（12）的底端固定卡接有密封装置（3），所述密封装置（3）包括圆形卡块（30）、圆形弹性板（31）和圆形的凹陷弹性片（32），所述圆形卡块（30）的顶端中间开设有圆形槽（34），所述圆形卡块（30）的顶端通过圆形弹性板（31）固定连接凹陷弹性片（32），所述圆形卡块（30）的圆形槽（34）、圆形弹性板（31）和凹陷弹性片（32）之间组成密封空腔室（33），所述圆筒卡板（20）的底端挤压接触卡位槽（12）内的凹陷弹性片（32）上，且螺纹通孔（100）和相对应的螺纹槽（200）内通过螺栓杆（4）固定。

2.根据权利要求1所述的一种具有缓冲工艺气体的基座，其特征在于：所述螺纹通孔（100）的数目为四列，且每列上的螺纹通孔（100）数目不少于三个，其中四列的螺纹通孔（100）均匀对称分布在外圆筒（10）上。

3.根据权利要求1所述的一种具有缓冲工艺气体的基座，其特征在于：所述外圆筒（10）和内圆筒（11）的高度相同，所述底板（1）、外圆筒（10）和内圆筒（11）为一体成型结构。

4.根据权利要求1所述的一种具有缓冲工艺气体的基座，其特征在于：所述外圆筒（10）的中心垂线和内圆筒（11）的中心垂直在同一垂线上。

5.根据权利要求1所述的一种具有缓冲工艺气体的基座，其特征在于：所述螺纹槽（200）的数目为四个，且四个螺纹槽（200）均匀对称分布在圆筒卡板（20）上，所述螺纹通孔（100）的孔直径和螺纹槽（200）的槽直径均相同。

6.根据权利要求1所述的一种具有缓冲工艺气体的基座，其特征在于：所述顶板（2）和圆筒卡板（20）为一体成型结构。