[发明专利]一种半导体光刻板清洗生产系统

说明书

本发明一种半导体光刻板清洗生产系统，其特征在于，该生产系统包括外罩机架组件以及依次设置在外罩机架组件内的上料机构、第一旋转抓取装置、第一定位顶升输送滚轮装置、第一输送滚轮装置、第一直线移动抓取机构、第一清洗装置、第二输送滚轮装置、第一粘尘机构、翻转机构、第三输送滚轮装置、第二清洗装置、第二直线移动抓取机构、第四输送滚轮装置、第二粘尘机构、第二定位顶升输送滚轮装置、第二旋转抓取装置和卸料机构；涉及一种半导体光刻板生产领域，尤其涉及一种半导体光刻板清洗生产系统。该生产系统采用自动化进料和清洗，并进行双面清洗，提高了清洗的洁净度自动化程度高，批量处理能力强，可以广泛用于工业生产之中。

技术领域

本发明涉及一种半导体光刻板生产领域，尤其涉及一种半导体光刻板清洗生产系统。

背景技术

光刻是制造半导体器件和集成电路微图形结构的关键工艺。其工艺质量直接影响着器件成品率、可靠性、器件性能以及使用寿命等参数指标。光罩是光刻工艺中的一个重要环节，光刻板必须非常洁净，所有硅片上的电路元件都来自版图。如果光刻板不洁净，存在污染颗粒，这些颗粒就会被复制到硅片表面的光刻胶上，造成器件性能的下降。然而，光刻板在使用过程中不可避免的会粘上灰尘、光刻胶等污染物，这些污染物的存在直接影响到光刻的效果。为了保证光刻板洁净，必须定期对光刻板进行清洗，而清洗的效果与清洗工艺以及各清洗工艺在设备上的合理配置有着密切的联系。

中国发明专利（公开号CN105590879A）公开了一种全自动光刻板清洗机，由上下料单元、清洗单元、翻转单元、光刻版传输单元、定位单元、药液供给与循环单元和温度控制单元组成。 但是该专利只进行单面的清洗，在清洗效果上还无法满足要求，另外该专利也只是公开了各个单元，但是如何实现自动化批量处理并没有公开。

发明内容

为了解决上述的技术问题，本发明的目的是提供一种半导体光刻板清洗生产系统，该生产系统采用自动化进料和清洗，并进行双面清洗，提高了清洗的洁净度，自动化程度高，批量处理能力强，可以广泛用于工业生产之中。

为了实现上述的目的，本发明采用了以下的技术方案：

一种半导体光刻板清洗生产系统，其特征在于，该生产系统包括外罩机架组件以及依次设置在外罩机架组件内的上料机构、第一旋转抓取装置、第一定位顶升输送滚轮装置、第一输送滚轮装置、第一直线移动抓取机构、第一清洗装置、第二输送滚轮装置、第一粘尘机构、翻转机构、第三输送滚轮装置、第二清洗装置、第二直线移动抓取机构、第四输送滚轮装置、第二粘尘机构、第二定位顶升输送滚轮装置、第二旋转抓取装置和卸料机构；所述的上料机构上的光刻板通过第一旋转抓取装置放置至第一定位顶升输送滚轮装置，第一定位顶升输送滚轮装置连接第一输送滚轮装置，第一输送滚轮装置上的光刻板通过第一直线移动抓取机构放置至第一清洗装置并由第一直线移动抓取机构取出放置至第二输送滚轮装置，第二输送滚轮装置连接第一粘尘机构，第一粘尘机构连接翻转机构，翻转机构连接第三输送滚轮装置，第三输送滚轮装置上的光刻板通过第二直线移动抓取机构放置至第二清洗装置并由第二直线移动抓取机构取出放置至第四输送滚轮装置，第四输送滚轮装置连接第二粘尘机构，第二粘尘机构连接第二定位顶升输送滚轮装置，第二定位顶升输送滚轮装置上的光刻板通过第一旋转抓取装置放置至卸料机构。

作为进一步改进，所述的上料机构和卸料机构结构相同，均包括放料座、辊道和上料小车；可移动式放料座用于放置待加工的光刻板，放料座底面平整，上部设置V型储料槽，V型储料槽的出料一边低于靠料一边；所述的辊道安装在两侧的辊道侧板中，辊道侧板固定安装在机架上，辊道与上料小车相互衔接，放料座能在辊道和上料小车上移动；所述的辊道的末端设置有料座锁紧装置，并在辊道的外侧设置有小车锁紧装置。

作为进一步改进，所述的料座锁紧装置包括旋转气缸和锁紧板，旋转气缸设置在辊道靠近设备里面的一端，锁紧板的一端安装在旋转气缸上，不旋转时，锁紧板一侧与辊道水平，旋转气缸旁还安装有接近传感器，辊道侧板两侧也各有一个接近传感器，旋转气缸两旁还装有两个限位块。