[发明专利]一种高热导率氮化硅陶瓷及其制备方法在审
申请号: | 201810612015.1 | 申请日: | 2018-06-14 |
公开(公告)号: | CN108585881A | 公开(公告)日: | 2018-09-28 |
发明(设计)人: | 叶枫;杨春萍;张标;叶健;刘强;高晔;叶凯 | 申请(专利权)人: | 哈尔滨工业大学 |
主分类号: | C04B35/584 | 分类号: | C04B35/584;C04B35/64 |
代理公司: | 北京隆源天恒知识产权代理事务所(普通合伙) 11473 | 代理人: | 闫冬;段守富 |
地址: | 150001 黑龙*** | 国省代码: | 黑龙江;23 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 氮化硅陶瓷 高热导率 制备 氮化硅粉体 脱氧处理 热导率 粉料 过筛 氮化硅陶瓷材料 氮化硅陶瓷基 抗热震性能 耐高温性能 氮化硅粉 混合介质 气压烧结 烧结过程 烧结助剂 声子散射 综合性能 含氧量 研磨 板材料 晶格氧 生坯 | ||
1.一种高热导率氮化硅陶瓷的制备方法,其特征在于,
第一步,将氮化硅粉进行脱氧处理、自然冷却,并将所得氮化硅粉体研磨过筛;
第二步,将第一步所述氮化硅粉体与烧结助剂在混合介质的作用下混合,混合结束后干燥、过筛,得到粉料;
第三步,将所述粉料压制成型,得到氮化硅陶瓷生坯;
第四步,将所述氮化硅陶瓷生坯进行气压烧结,得到氮化硅陶瓷材料。
2.如权利要求1所述的高热导率氮化硅陶瓷的制备方法,其特征在于,第一步所述脱氧处理的工艺为,将所述氮化硅粉和碳粉分别放入不同的坩埚内,放置于管式炉内,以5-10℃/min的升温速率,在反应气氛中1200℃-1400℃温度下处理4-8h。
3.如权利要求2所述的高热导率氮化硅陶瓷的制备方法,其特征在于,所述反应气氛为氮气或氨气。
4.如权利要求1所述的高热导率氮化硅陶瓷的制备方法,其特征在于,第二步所述烧结助剂为二元复合烧结助剂,且所述二元复合烧结助剂包括稀土氧化物和碱土金属化合物。
5.如权利要求4所述的高热导率氮化硅陶瓷的制备方法,其特征在于,所述稀土氧化物是Y2O3、Yb2O3、Gd2O3、Nd2O3中的一种,所述碱土金属化合物是MgO、MgSiN2或MgF2中的一种。
6.如权利要求4或5所述的高热导率氮化硅陶瓷的制备方法,其特征在于,第二步所述氮化硅粉体、所述稀土氧化物与所述碱土金属化合物的摩尔比为95-89:4-6:1-5。
7.如权利要求1所述的高热导率氮化硅陶瓷的制备方法,其特征在于,第二步所述混合介质为异丙醇,且所述异丙醇与所述氮化硅粉体的重量比为1-1.5:1。
8.如权利要求7所述的高热导率氮化硅陶瓷的制备方法,其特征在于,第二步所述干燥的过程为,先在55-75℃进行旋转干燥,然后在真空烘箱中以110-130℃干燥3-5小时。
9.如权利要求1所述的一种高热导率氮化硅陶瓷的制备方法,其特征在于,第三步所述压制成型的工艺条件为,先使用钢模干压成型,再进行冷等静压成型,成形压力200-500MPa,成型时间100-300s。
10.如权利要求1所述的一种高热导率氮化硅陶瓷的制备方法,其特征在于,第四步中,所述气压烧结的工艺条件为,以氮气为烧结气氛,气压为0.9-1.5Mpa的条件下,以5-15℃/min的速率升温至1700-2000℃,并保温1.5-20h。
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