[发明专利]一种湿法黑硅硅片的处理方法及湿法黑硅硅片的制备方法

权利要求书

1.一种湿法黑硅硅片的处理方法，其特征在于，包括：

在脱金属清洗液中引入电化学体系，在电化学反应下脱除制绒硅片表面的金属颗粒；

所述电化学体系以Pt片为工作电极，且以Pt片为负极。

2.根据权利要求1所述的处理方法，其特征在于，所述电化学反应的电压≤10V。

3.根据权利要求1所述的处理方法，其特征在于，所述脱金属清洗液为硝酸液。

4.根据权利要求3所述的处理方法，其特征在于，所述硝酸液的质量百分浓度为10％～65％。

5.根据权利要求1所述的处理方法，其特征在于，所述制绒硅片表面的金属颗粒为Ag颗粒或Cu颗粒。

6.根据权利要求1所述的处理方法，其特征在于，所述电化学反应的温度为25～45℃。

7.根据权利要求1或5所述的处理方法，其特征在于，所述制绒硅片通过以下方式获得：

利用制绒液对硅片进行制绒，得到制绒硅片；

所述制绒液包括：氢氟酸、双氧水和硝酸盐。

8.根据权利要求7所述的处理方法，其特征在于，所述制绒液中，氢氟酸的质量浓度为5％～20％，双氧水的质量浓度为10％～30％，硝酸盐的质量浓度为1％～5％。

9.根据权利要求7或8所述的处理方法，其特征在于，所述制绒的温度25～45℃，时间为1～5min。

10.一种湿法黑硅硅片的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

a)利用制绒液对硅片制绒，得到制绒硅片；

b)对制绒硅片进行脱金属处理，得到脱金属硅片；

所述脱金属处理为权利要求1～9中任一项所述的处理方法；

c)对所述脱金属硅片进行后处理，得到硅片产品。