[发明专利]一种高光耐刮膜及其面膜的制备方法

权利要求书

1.一种高光耐刮膜，其特征在于，从上至下依次为纳米涂层、水性油墨层、PVC印刷底膜、水性背胶层，其特征在于，所述纳米涂层与水性油墨层之间设有高光耐刮面膜。

2.根据权利要求1所述的高光耐刮膜，其特征在于，所述高光耐刮面膜以透明片为基材，基材表面从下至上依次为附着层、透明层；所述透明层涂料包括以下组分质量比：10%-30%的活性稀释剂、20%-50%的软组分、30%-60%的硬组分、2%-5%的光引发剂、0.1%-1%的流平剂。

3.根据权利要求2所述的高光耐刮膜，其特征在于，所述软组分为软聚氨脂丙烯酸脂，所述硬组分为硬聚氨脂丙烯酸脂，所述光引发剂为紫外光活性光引发剂，所述流平剂为反应性硅氧烷，所述活性稀释剂为1,6-乙二醇二丙烯酸脂或丙烯酰马琳。

4.根据权利要求3所述的高光耐刮膜，其特征在于，所述流平剂为含双键的反应性硅氧烷。

5.一种高光耐刮面膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

(1)取质量比为20%-50%的软组分、30%-60%的硬组分、10%-30%的活性稀释剂、0.1%-1%的流平剂混合均匀，边搅拌边依次加入质量比为2%-5%的光引发剂；

(2)对基材进行除尘，然后进行电晕处理，再将基材加温烫平；

(3)在步骤(2)处理过的基材上涂布基底，再通过微凹精密涂布将步骤(1)混合均匀的涂料涂布在基底上层；

(4)将步骤(3)涂布后的基材在悬浮式烘箱中烘干，烘干温度为40℃-70℃，然后再进行隔氧紫外固化，得到高光耐刮面膜。