[发明专利]一种UV光照降低粘力的不干胶及其制备方法有效
申请号: | 201810614940.8 | 申请日: | 2018-06-14 |
公开(公告)号: | CN109181571B | 公开(公告)日: | 2021-01-29 |
发明(设计)人: | 黄伟 | 申请(专利权)人: | 深圳深汕特别合作区昌茂粘胶新材料有限公司 |
主分类号: | C09J7/38 | 分类号: | C09J7/38;C09J7/40;C09J133/04;C09J11/04 |
代理公司: | 北京汇彩知识产权代理有限公司 11563 | 代理人: | 王敬波 |
地址: | 518000 广东省深圳*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 uv 光照 降低 不干胶 及其 制备 方法 | ||
本发明包括离型底纸和外侧胶层,其中所述外侧胶层包括分子量在50‑60万的丙烯酸压敏胶、紫外光区在250‑420nm的自由基光引发剂和异氰酸酯,外侧胶层厚度为18‑25um;所述丙烯酸压敏胶、异氰酸酯与自由基光引发剂的质量比为100:1.5‑3:12‑20;所述离型底纸使用具有离型功能的80克格拉辛底纸进行涂布。本发明制备的不干胶具有较高的初始粘力,并且在UV光照后能够快速降低粘力达到可以自然脱落的程度,不会残留在晶圆本体上。
技术领域
本发明属于胶水技术领域,具体涉及一种UV光照降低粘力的不干胶及其制备方法。
背景技术
电子晶园切割时需要有一定粘力的不干胶对晶圆进行固定,当电子晶园切割后送到下一个工作位置加工时又必须让晶圆能完全分离下来。而常见的不干胶在固定后,在较长时间内难以脱落,同时还容易留有残胶在晶圆本体上。
为了达到电子晶园切割时避免出现电子晶园不脱落,又要使电子晶园切割到下个工序容易脱落的目的,解决电子产品加工电子晶圆切割操作时存在不良率高以及容易出现停机的现象。因此,在晶圆切割加工过程中,需要一种可变粘力的不干胶材料用以固定晶圆和脱落。
发明内容
针对此问题,本发明提供一种UV光照降低粘力的不干胶及其制备方法,制备的不干胶具有较高的初始粘力,并且在UV光照后能够快速降低粘力达到可以自然脱落的程度,不会残留在晶圆本体上,解决电子产品加工电子晶圆切割操作时存在不良率高以及容易出现停机的现象。
一种UV光照降低粘力的不干胶,其特征在于包括离型底纸和外侧胶层,其中所述外侧胶层包括分子量在50-60万的丙烯酸压敏胶、紫外光区在250-420nm的自由基光引发剂和异氰酸酯,外侧胶层厚度为18-25um;所述丙烯酸压敏胶、异氰酸酯与自由基光引发剂的质量比为100:1.5-3:12-20;所述离型底纸使用具有离型功能的80克格拉辛底纸进行涂布。
进一步地,外侧胶层还包括三芳基硫鎓盐光引发剂I-160,所述三芳基硫鎓盐光引发剂I-160与自由基光引发剂的质量比为1-1.5:5。
进一步地,所述自由基光引发剂为夺氢型光引发剂BP。
进一步地,所述外侧胶层还包括纳米氧化镧,所述纳米氧化镧的粒径为20-50nm。
一种UV光照降低粘力的不干胶的制备方法,其特征在于包含以下步骤:(1)根据配方进行搅拌胶水,高精密的涂布机设定对应的参数;(2)用80克格拉辛底纸在精密的涂布设备进行涂布18-25克/平方米干量胶层,烘干;(3)使用6P、7P或16P的PVC使用在线涂布设备专用电晕机进行火花处理;(4)80克格拉辛底纸涂胶回水冷却后贴合有电晕面的PVC;(5)冷却定型收卷,用防紫外光包装材料包装,待加工成不同的规格。
在产品设计上使用两个不同的粘力来控制,从而达到产品加工过程的稳定性与提高工作效率。用波长为365nm照射,未照射的粘力为5-6.5N/inch,UV照射1分钟后粘力降至2.0N/inch以下,而UV照射3分钟后粘力降至1N/inch以下,其原理为光引发剂是光固化胶粘剂的重要组成部分,光引发剂受紫外光照射后,吸收光的能量,分裂成2个活性的自由基,引发光敏树脂和活性发生聚合,使丙烯酸压敏胶固化而减小粘力。
1.选择丙烯酸压敏胶分子量在50-60万的;2.选择光引发剂(Photocuringagent)紫外光区(250-420nm),加入12-20%的量;3.将丙烯酸压敏胶、异氰酸酯与自由基光引发剂按标准比例添加并通过搅拌设备搅拌均匀;比例:100:1.5-3:12-20,4.使用具有离型功能的80克格拉辛底纸进行涂布烘干后胶层厚度18-25u。
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