[发明专利]一种产生非对称传输的双层矩形孔微纳结构的制备方法在审
| 申请号： | 201810616454.X | 申请日： | 2018-06-15 |
| 公开（公告）号： | CN108793068A | 公开（公告）日： | 2018-11-13 |
| 发明（设计）人： | 刘黎明;王红航;杨健君;迟锋;水玲玲;吐达洪·阿巴;张智;张中月 | 申请（专利权）人： | 电子科技大学中山学院 |
| 主分类号： | B82B3/00 | 分类号： | B82B3/00;B82Y5/00;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 广东中亿律师事务所 44277 | 代理人： | 杜海江 |
| 地址： | 528400 *** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 制备 双层矩形 微纳结构 非对称 矩形孔 镀金 简化制备工艺 聚焦离子束 传输 镀介质层 上下两层 设计图形 实验误差 微纳光学 校准 纳米层 镀镍 基底 刻蚀 蒸镀 轰击 | ||
1.一种产生非对称传输的双层矩形孔微纳结构的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：
步骤1，设计图形：用图形发生器设计双层矩形孔微纳结构图形；
步骤2，准备基底：准备ITO玻璃基底并清洗吹干；
步骤3，镀镍：将步骤2吹干的基底放入电子束真空蒸发镀膜机中利用电子束蒸发法蒸镀金属镍，形成镍层；
步骤4，镀金：在步骤3形成的镍层上继续利用电子束蒸发法蒸镀金，形成第一纳米层；
步骤5，镀介质层：在形成的第一纳米层上继续利用电子束蒸发法蒸镀二氧化硅，形成第二纳米层；
步骤6，镀金：在形成的第二纳米层上继续蒸镀金，形成第三纳米层；
步骤7，轰击：调控离子束轰击形状为步骤1所述的矩形孔形状，利用FIB技术轰击矩形孔位置，得到所述产生非对称传输的双层矩形孔微纳结构。
2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于：所述第一纳米层、第二纳米层和第三纳米层周期均相等：长度=宽度=560~720nm。
3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于：所述第一纳米层和第三纳米层厚度相等；所述第二纳米层的厚度=100~130nm；所述第二纳米层厚度大于第一纳米层厚度。
4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于：步骤3中，蒸镀镍的厚度为5~10nm。
5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于：所述步骤2具体操作为：准备尺寸为20.0mm长×20.0mm宽×2.0mm厚的ITO玻璃，并将准备的ITO玻璃放入洗涤液中清洗，依次用去离子水、丙酮和无水酒精各超声15min后，然后用去离子水超声清洗5min，最后用氮气枪吹干后放入氮气柜中备用。
6.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于：所述步骤7中离子束采用镓离子束。
7.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于：所述基底可倾斜放置。
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