[发明专利]一种纳米银线导电薄膜及其制作方法

说明书

本发明提供一种纳米银线导电薄膜，包括一透明基材层，一纳米银线层，所述透明基材层上形成一机械运动方向，该纳米银线导电膜在机械运动方向的线阻与其垂直方向的线阻比为0.7‑1.3，提高了导电薄膜在触控屏应用中的适用性和良率。

技术领域

本发明涉及导电薄膜技术领域，尤其涉及一种纳米银线导电薄膜及其制作方法。

背景技术

未来移动终端、可穿戴设备、智能家电等产品，对触摸面板有着强劲需求，同时随着触控面板大尺寸化、低价化，以及传统ITO薄膜不能用于可弯曲应用，导电性及透光率等本质问题不易克服等因素，众面板厂商纷纷开始研究ITO的替代品。

纳米银线除了具有银优良的导电性之外，由于纳米级别的尺寸效应，还具有优异的透光性、耐曲饶性。因为被视为是最有可能替代传统ITO透明电极的材料，为实现柔性、可弯折LED显示、触摸屏等提供了可能，并已经有大量的研究将其应用于薄膜太阳能电池。纳米银线(SNW，silver nanowire)技术，是将纳米银线墨水材料涂抹在塑胶或者玻璃基板上，然后利用镭射光刻技术，刻画制成具有纳米级别银线导电网络图案的透明的导电薄膜，又因为可以应用在各种尺寸的显示屏幕上，特别是应用在大尺寸触控屏上。

如图1所示，现在市场上有很多的纳米银线导电薄膜，目前制备纳米银线导电薄膜有很多的方法，例如狭缝式涂布与微凹版涂布方式，因惯性定律的因素容易造成基材层11上的纳米银线15顺向在涂布机械运动方向排列，进而造成机械运动方向的线阻比其垂直方向(下文统称TD方向)的线阻小太多，这对后端触控模组造成一定的不便。

发明内容

为了克服以上机械运动方向的线阻比其垂直方向的线阻小太多的问题，本发明提供一种纳米银线导电薄膜，包括一透明基材层，一纳米银线层，该透明基材层上形成一机械运动方向，该纳米银线导电膜在机械运动方向的线阻与其垂直方向的线阻比为0.7-1.3。

进一步地，所述纳米银线层由下至上按顺序包括一基质层、硬化层和至少部分嵌在所述基质层和硬化层的纳米银线。

进一步地，所述纳米银线层未嵌入所述基质层和硬化层的纳米银线表面包裹有硬化材料

进一步地，所述纳米银线的长度为30-100μm，直径为10-40nm。

进一步地，所述基质层的厚度为20nm-200nm

进一步地，所述在机械运动方向的线阻与其垂直方向的线阻比为0.9-1.1。

进一步地，所述硬化层的厚度为40nm-1um

本发明还提供一种纳米银线导电薄膜的制作方法，包括以下步骤：

a),在一透明基材上，涂布纳米银线涂布液，并形成机械运动方向，在纳米银线涂布液的斜上方或一侧设置风嘴吹风以及进行热干燥；

b),在步骤a)的纳米银线层上涂布硬化液，经热烘箱干燥、UV固化。

进一步地，纳米银线涂布液的黏度为4-15cps。

进一步地，风嘴吹风的方向与所述透明基材表面形成ɑ角，其中0°≤ɑ≤60°。

进一步地，风嘴吹风的方向与所述透明基材形成一个铅锤面，所述铅锤面与所述机械运动方向形成β角，其中45°≤β≤135°。

本发明通过提供的结构和制作方法，提高了导电薄膜在触控屏应用中的适用性和良率。

附图说明

构成本发明的一部分的说明书附图用来提供对本发明的进一步理解，本发明的示意性实施例及其说明用于解释本发明，并不构成对本发明的不当限定。在附图中：

图1为现有技术中纳米银线导电薄膜涂布过程示意图