[发明专利]一种金刚石复合薄膜及其制备方法和应用在审
申请号: | 201810619512.4 | 申请日: | 2018-06-15 |
公开(公告)号: | CN108517520A | 公开(公告)日: | 2018-09-11 |
发明(设计)人: | 李新宇;张学良;齐维滨;王宏 | 申请(专利权)人: | 北京铂阳顶荣光伏科技有限公司 |
主分类号: | C23C28/02 | 分类号: | C23C28/02;C23C14/35;C23C14/16;C23C14/18;C25D3/12;B23K37/00 |
代理公司: | 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 | 代理人: | 舒畅 |
地址: | 100176 北京市北京经济*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 金刚石 复合薄膜 金刚石表面 镍层 钼层 制备方法和应用 钛层 沉积 金刚石复合材料 电真空器件 金属化结构 沉积钛层 窗口材料 技术要求 气密焊接 低损耗 输出窗 可用 制备 钼镍 焊接 赋予 | ||
1.一种金刚石复合薄膜,其特征在于,包括金刚石和依次沉积在金刚石表面的钛层、钼层和镍层。
2.根据权利要求1所述的金刚石复合薄膜,其特征在于,所述钛层的厚度为50-400nm,所述钼层的厚度为50-500nm,所述镍层的厚度为1050-6050nm。
3.根据权利要求1或2所述的金刚石复合薄膜,其特征在于,所述镍层包括依次沉积在钼层表面的第一镍层和第二镍层,所述第一镍层为磁控溅射层,所述第二镍层为电镀层。
4.根据权利要求3所述的金刚石复合薄膜,其特征在于,所述第一镍层的厚度为50-1000nm,所述第二镍层的厚度为1-6μm;
优选的,所述第一镍层的厚度为50-500nm,所述第二镍层的厚度为1-2μm。
5.根据权利要求1所述的金刚石复合薄膜,其特征在于,所述钼层为磁控溅射层;
优选的,所述钼层的厚度为50-500nm;
更优选的,所述钼层的厚度为50-400nm。
6.根据权利要求1所述的金刚石复合薄膜,其特征在于,所述钛层为磁控溅射层;
优选的,所述钛层的厚度为50-400nm;
更优选的,所述钛层的厚度为50-200nm。
7.一种金刚石复合薄膜的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:
在金刚石表面依次沉积钛层、钼层和镍层,形成金刚石复合薄膜。
8.根据权利要求7所述的金刚石复合薄膜的制备方法,其特征在于,所述镍层包括依次沉积在钼层表面的第一镍层和第二镍层;所述在金刚石表面依次沉积钛层、钼层和镍层,形成金刚石复合薄膜的步骤具体为:
在金刚石表面通过磁控溅射依次沉积形成钛层、钼层和第一镍层,再通过电镀沉积形成第二镍层。
9.根据权利要求8所述的金刚石复合薄膜的制备方法,其特征在于,所述磁控溅射的条件包括:温度为100-300℃。
10.根据权利要求8所述的金刚石复合薄膜的制备方法,其特征在于,所述磁控溅射的条件包括:电压为300-500V,电流为0.3-0.8A。
11.权利要求1-6任一项所述的金刚石复合薄膜的应用,其特征在于,所述金刚石复合薄膜与铜或可伐合金焊接连接使用;
优选的,所述金刚石复合薄膜应用于窗口材料领域;
更优选的,所述窗口材料包括大功率电真空器件的输出窗。
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