[发明专利]一种硬质薄膜的制备方法在审
申请号: | 201810626508.0 | 申请日: | 2018-06-19 |
公开(公告)号: | CN108486526A | 公开(公告)日: | 2018-09-04 |
发明(设计)人: | 裘友玖;张鑫;朱华 | 申请(专利权)人: | 佛山陵朝新材料有限公司 |
主分类号: | C23C8/36 | 分类号: | C23C8/36;C23C8/24;C23C14/34;C23C14/08;C23C28/04 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 528500 广东省佛山市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 硬质薄膜 膜层 多孔氧化铝模板 二氧化硅 二氧化钛 溅射成膜 纳米模板 非对称 硅溶胶 制备 针孔 纳米二氧化硅 硬质合金表面 耐磨损性能 附着力强 辉光放电 活性稳定 溅射镀膜 溅射清洗 离子氮化 溶胶填充 氧气气氛 大颗粒 氮化层 可控性 耐候性 氧化铝 靶材 溅射 孔壁 制取 沉积 浸泡 平整 污染 | ||
1.一种硬质薄膜的制备方法,其特征在于,其具体步骤为:
(1)将多孔氧化铝在硅溶胶中浸泡干燥,得纳米模板,将纳米模板固定在镀膜机中,在氧气气氛下,以二氧化钛为蒸发源,对纳米模板进行镀膜,得非对称纳米模板;
(2)将硬质合金打磨抛光后用丙酮超声清洗,再用无水乙醇超声清洗后吹干,渗氮处理,得预处理硬质合金;
(3)将预处理硬质合金置于离子镀膜机中,通过Ar+辉光放电效应进行溅射清洗;
(4)控制基材偏压为-300~-200V,以非对称纳米模板为靶材,溅射成膜,得硬质薄膜。
2.根据权利要求1所述的一种硬质薄膜的制备方法,其特征在于:步骤(1)所述的浸泡干燥处理为多孔氧化铝在硅溶胶中浸泡2~4h,取出,在100℃的烘箱中干燥1~2h。
3.根据权利要求1所述的一种硬质薄膜的制备方法,其特征在于:步骤(2)所述的渗氮处理步骤为:在压力为10~100Pa、温度为300~350℃、电压为400~700V下,渗氮处理2~3h。
4.根据权利要求1所述的一种硬质薄膜的制备方法,其特征在于:步骤(3)所述的溅射清洗条件为镀膜室的真空度为2×10-3Pa,通入氮气至真空室为0.6~0.8Pa,弧电流为50~60A,基材温度为200~250℃,基材偏压-600~-800V。
5.根据权利要求1所述的一种硬质薄膜的制备方法,其特征在于:步骤(4)所述的溅射成膜条件为溅射功率为60~200W,沉积时间为10~20s,靶材与硬质合金之间的距离为25~30cm。
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