[发明专利]一种单向抗压可拉脱撞击分离结构有效

专利信息
申请号: 201810630551.4 申请日: 2018-06-19
公开(公告)号: CN108820254B 公开(公告)日: 2020-03-06
发明(设计)人: 彭玉明;耿志卿;王伟;方宝东;王骢 申请(专利权)人: 上海卫星工程研究所
主分类号: B64G1/24 分类号: B64G1/24
代理公司: 上海段和段律师事务所 31334 代理人: 李佳俊;郭国中
地址: 200240 *** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 单向 抗压 可拉 撞击 分离 结构
【说明书】:

发明提供了一种单向抗压可拉脱撞击分离结构,由分离段以及在仪器段表面的8根导轨组成;未分离时,分离段包裹着仪器段,通过内表面设置的4个均匀周向圆环槽与仪器段外壁上存在的半圆环突起贴合,分离段前端紧贴仪器前面的侵彻段;分离段内表面还设有与8根导轨相配合的8个导轨槽,通过导轨和导轨槽的配合来保证侵彻时分离段的姿态。该撞击分离装置具有结构简单、可靠性高,分离精度高,单向抗压的特点。

技术领域

本发明涉及一种单向抗压可拉脱撞击分离结构。

背景技术

深空撞击探测是实现地外天体内部探测的高效手段。为了保证撞击器在撞击进入目标表体内后仪器可以持续工作,所以要将天线,太阳能收集装置等相关设备停留在天体表面。因此,需要设计一种可分离的撞击分离装置,携带天线等构件与撞击器进行分离,停留在天体表面为撞击器内的载荷提供能量和对外信息传输。本发明设计的分离装置与传统的分离装置相比,不需要火工品,仅通过撞击过程中两个分体间的剪切力实现分离。由于地外天体撞击速度在几百米每秒至几千米每秒不等,冲击过载将达到10 4~10 5g,所以在撞击过程中,分离时的姿态也需要有相应的保证,本设计中通过8根导轨进行分离时的姿态和路径控制,具有分离精度高的特点。同时为确保分离装置在撞击时不损坏,装置还需具备较强的抗冲击能力。通过改变分离段的形状与仪器段相匹配,可以将该装置扩展成不同的构型撞击器的分离装置,适用于不同的行星撞击任务。

发明内容

本发明的目的是提供一种单向抗压可拉脱撞击分离结构,可适应不同的任务需求,为深空高速撞击器分离器的设计与实现提供技术支持,可应用于小天体、月球、火卫等无大气天体的撞击探测任务。该项技术也可应用于火星、金星等有大气天体硬着陆探测中。

本发明具体通过以下技术方案实现:

一种单向抗压可拉脱撞击分离结构,由分离段以及在仪器段表面的8根导轨组成;分离器是装置的主要部分,未分离时分离段包裹着仪器段,通过内表面设置的4个均匀周向圆环槽与仪器段外壁上存在的半圆环突起贴合,来限制两分体前后的相对运动和周相转动,在分离时,两分体间的剪切力使分离段跳脱半圆环突起,实现分离;分离段前端紧贴仪器前面的侵彻段;分离段内表面还设有与8根导轨相配合的8个导轨槽,通过导轨和导轨槽的配合来保证侵彻时分离段的姿态。

优选地,分离段采用圆柱形,以配合撞击器细长圆柱形构型,并包裹在仪器段外,对仪器段起到一定保护作用,分离段采用高强度的材料。

优选地,分离段前端与侵彻段贴合,承受撞击瞬间的向下冲击压力;侵彻过程中,通过仪器段的向下惯性力与分离段向上的推力,实现分离段的脱离。

优选地,所述导轨选用高强度材料,均匀的分布在仪器段表面,分散承受撞击分离时的冲击力,提高装置可承受的撞击冲击力。

优选地,半圆环突起采用圆滑过渡,方便于实际的装配;4个半圆环突起对称分布,能够有均匀受力。

优选地,未分离时,分离段的前端与侵彻段相紧贴,实现在撞击瞬间,能够承受向下的单向压力。

优选地,分离段在撞击器与仪器段存在预紧力,能够保持正常飞行不松动,并且在撞击过程中能够相互分离。

与现有技术相比,本发明具有如下的有益效果:通过高速撞击分离装置的设计,该装置能够承受撞击的高过载,单向抗压。在侵彻过程中,依靠撞击器两个分体间的剪切力即可实现跳脱分离,同时配合导轨保证分离姿态。具有结构简单、可靠性高,分离精度高的特点。本发明可有效用于小天体、月球、火星、火卫等各类地外天体撞击任务撞击器中。

附图说明

通过阅读参照以下附图对非限制性实施例所作的详细描述,本发明的其它特征、目的和优点将会变得更明显:

图1为本发明实施例在分离时的总体图

图2为本发明实施例在未分离时的总体图。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海卫星工程研究所,未经上海卫星工程研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810630551.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top