[发明专利]多流体校准

权利要求书

1.一种流量计系统，包括：

流量计，其被配置成允许第一流体的通过所述流量计的第一流动；以及

变送器电子设备，其耦接至所述流量计并且被配置成：

计算在所述第一流动期间所述第一流体的第一分布系数PF；

基于相关性来计算与所述第一分布系数PF对应的第一仪表系数MF，其中在所述第一流动之前预先存储所述相关性，并且针对不同粘度的多个流体，所述相关性将多个分布系数PF与多个仪表系数MF相关联；以及

使用所述第一仪表系数MF来计算所述第一流体的第一体积。

2.根据权利要求1所述的流量计系统，其中，所述变送器电子设备还被配置成：

计算在所述第一流动期间所述第一流体的第二分布系数PF；

基于所述相关性来计算与所述第二分布系数PF对应的第二仪表系数MF；以及

使用所述第二仪表系数MF来计算所述第一流体的第二体积。

3.根据权利要求2所述的流量计系统，其中，所述变送器电子设备还被配置成：

进一步当所述第一流体以第一平均速度流过所述流量计时计算所述第一体积，以及

进一步当所述第一流体以第二平均速度流过所述流量计时计算所述第二体积。

4.根据权利要求1所述的流量计系统，其中，所述流量计还被配置成允许第二流体的第二流动，并且其中，所述变送器电子设备还被配置成：

计算在所述第二流动期间所述第二流体的第二分布系数PF；

基于所述相关性来计算与所述第二分布系数PF对应的第二仪表系数MF；以及

使用所述第二仪表系数MF来计算所述第二流体的第二体积。

5.根据权利要求1所述的流量计系统，其中，所述相关性与所述第一流体和第二流体相关联。

6.根据权利要求1所述的流量计系统，其中，所述相关性表示分布系数PF从约1.17到约1.28的流体。

7.根据权利要求1所述的流量计系统，其中，所述相关性表示雷诺数从约5000到约200000的流体。

8.根据权利要求1所述的流量计系统，其中，所述流量计包括：

内弦，以及

外弦。

9.根据权利要求8所述的流量计系统，其中，所述第一分布系数PF和内弦流动速度成正比，并且和外弦流动速度成反比，所述内弦流动速度与所述内弦相关联，所述外弦流动速度与所述外弦相关联。

10.根据权利要求9所述的流量计系统，其中，所述相关性是多项式方程式。

11.根据权利要求10所述的流量计系统，其中，所述变送器电子设备还被配置成进一步使用所述第一流体的平均速度、所述流量计系统的截面面积、以及所述第一流体通过所述流量计系统所花费的时间来计算所述第一体积。

12.根据权利要求1所述的流量计系统，其中，所述相关性是二维曲线。

13.根据权利要求1所述的流量计系统，其中，所述仪表系数MF是参考容积与所述流量计系统的容积的比率。

14.一种流体流测量的方法，包括：

允许第一流体的通过流量计的第一流动；

计算在所述第一流动期间所述第一流体的第一分布系数PF；

基于相关性来计算与所述第一分布系数PF对应的第一仪表系数MF，其中在所述第一流动之前预先存储所述相关性，并且针对不同粘度的多个流体，所述相关性将多个分布系数PF与多个仪表系数MF相关联；以及

使用所述第一仪表系数MF来计算所述第一流体的第一体积。