[发明专利]一种原子蒸汽空间密度分布的测量装置及测量方法

权利要求书

1.一种原子蒸汽空间密度分布的测量装置，其特征在于：包括沉积板、承托板、镀膜样片和支撑组件，所述沉积板和承托板固定在所述支撑组件上，所述沉积板上设有呈矩阵分布的用于放置镀膜样片的安置孔，所述承托板上设有与所述安置孔一一对应的承托孔，所述镀膜样片的面积大于所述承托孔的面积并小与所述安置孔的面积。

2.如权利要求1所述的一种原子蒸汽空间密度分布的测量装置，其特征在于：所述沉积板、承托板、支撑组件和镀膜样片的材质为不锈钢、金属钼或金属铌。

3.如权利要求1所述的一种原子蒸汽空间密度分布的测量装置，其特征在于：所述支撑组件包括支撑框和固定设置在所述支撑框边缘的凸起卡边。

4.如权利要求3所述的一种原子蒸汽空间密度分布的测量装置，其特征在于：所述支撑框为长方形框架，所述凸起卡边均匀分布在所述长方形框架的四个边上。

5.如权利要求3所述的一种原子蒸汽空间密度分布的测量装置，其特征在于：所述沉积板和承托板为面积相同的两块长方形板，且所述沉积板和承托板的四条边由所述凸起卡边卡合。

6.如权利要求1所述的一种原子蒸汽空间密度分布的测量装置，其特征在于：所述沉积板和承托板通过螺钉固定在所述的支撑框上。

7.如权利要求1所述的一种原子蒸汽空间密度分布的测量装置，其特征在于：所述安置孔、承托孔和镀膜样片均为正方形结构。

8.如权利要求1所述的一种原子蒸汽空间密度分布的测量装置，其特征在于：所述安置孔、承托孔和镀膜样片均为长方形结构。

9.如权利要求7或8所述的一种原子蒸汽空间密度分布的测量装置，其特征在于：所述安置孔的边长比所述承托孔的边长大1-2mm。

10.如权利要求7或8所述的一种原子蒸汽空间密度分布的测量装置，其特征在于：所述镀膜样片的边长比所述安置孔的边长小1-2mm。

11.如权利要求1所述测量装置的测量方法，其特征在于：包括以下步骤：

步骤1，将呈矩阵分布的镀膜样片进行定位；

步骤2，将测量装置放置在原子蒸汽环境中，原子沉积在所述镀膜样片上成膜；

步骤3，利用镀膜样片沉积原子前后的质量差计算原子个数；

步骤4，根据镀膜样片面积和平均原子速度估算出测试区域的原子蒸汽密度分布。

12.如权利要求11所述测量装置的测量方法，其特征在于：所述步骤1中先后将承托板和沉积板固定在支撑组件上，将镀膜样片安置在安置孔内以实现对镀膜样片的定位。