[发明专利]液体喷出头基板和液体喷出头有效
申请号: | 201810638283.0 | 申请日: | 2018-06-20 |
公开(公告)号: | CN109094196B | 公开(公告)日: | 2020-05-05 |
发明(设计)人: | 樋口广志;坂井稔康;加藤雅隆;上村贵之 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | B41J2/01 | 分类号: | B41J2/01;B41J2/135;B41J2/14;B41J2/175;B41J2/18 |
代理公司: | 北京魏启学律师事务所 11398 | 代理人: | 魏启学 |
地址: | 日本东京都大*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 液体 喷出 头基板 | ||
提供液体喷出头基板和液体喷出头。液体喷出头基板配置有多个单元。各单元均包括:形成于支撑基板的第一面的压力产生元件;以及一对独立液室,该对独立液室以彼此相对的方式形成于压力产生元件的两侧,并且向支撑基板的第一面开口。液体喷出头基板在支撑基板中包括:第一共用液室,其与成对的独立液室中的位于一侧的多个独立液室连通;第二共用液室,其与成对的独立液室中的位于另一侧的多个独立液室连通;以及分隔壁,其使第一共用液室和第二共用液室彼此分离。
技术领域
本发明涉及液体喷出头基板。本发明还涉及包括液体喷出头基板的液体喷出头。
背景技术
在从液体喷出头喷出液滴的记录设备(例如,喷墨打印机)中,从液室将液体供应到压力产生室,并且对压力产生元件施加能量以使液体从喷出口喷出。已知液室被划分为共用液室和独立液室的构造,并且将液体从独立液室独立地供应到连通到各喷出口的压力产生室以增加喷嘴密度,从而执行高速打印。当将液体从多个独立液室供应到一个压力产生室时,液体供应性能得到改善,此外,液体的喷出方向变得稳定。因此,能够以高速形成具有高准确度的记录物品。通过上述共用液室和独立液室的构造,液体还能够在压力产生室中循环,因而能够排出改变了密度和粘度的液体,结果是能够形成具有稳定品质的记录物品。在日本特开2011-161915号公报中,公开了具有独立液室和共用液室的构造的液体喷出头。
在具有独立液室和共用液室的构造的液体喷出头中,存在这样的情况:为了改善机械强度、热辐射性能等并且为了使液体循环,在共用液室中形成分隔壁。当在上述构造中进行高速记录时,要求液体在一次喷出之后快速地再填充到压力产生元件的表面,因此要求使从独立液室到压力产生元件的距离(再填充距离)尽可能减小。仅通过使独立液室靠近压力产生元件不能充分地减小再填充距离,并且仅能够通过减小分隔壁宽度来减小再填充距离。然而,当在日本特开2011-161915号公报公开的构造中将分隔壁形成于一对独立液室之间并且减小分隔壁的宽度时,分隔壁的机械强度易于降低。结果,例如在液体喷出头基板的制造过程期间产出降低,并且液体喷出头在受到振动和冲击时易于损坏。因而,可能会使液体喷出头的生产性和可靠性变差。
发明内容
根据本发明的一个实施方式,提供一种液体喷出头基板,其中配置有多个单元,所述多个单元中的每个单元均包括:压力产生元件,其形成于支撑基板的第一面;以及一对独立液室,其以彼此相对的方式形成于所述压力产生元件的两侧,并且向所述支撑基板的所述第一面开口,所述液体喷出头基板在所述支撑基板中包括:第一共用液室,其与成对的所述独立液室中的位于一侧的多个独立液室连通;第二共用液室,其与成对的所述独立液室中的位于另一侧的多个独立液室连通;以及分隔壁,其使所述第一共用液室与所述第二共用液室彼此分离,其中,所述分隔壁沿所述压力产生元件的配置方向延伸,所述分隔壁具有小于成对的所述独立液室之间的距离的宽度,并且在所述支撑基板的在所述支撑基板厚度方向上的平面图中,所述分隔壁具有在所述配置方向上规律地折曲的形状。
本发明还提供一种液体喷出头,所述液体喷出头包括:如上所述的液体喷出头基板;以及构件,其形成于所述支撑基板的所述第一面,并且包括:一个压力产生室,其与所述多个单元中的每个单元用的成对的所述独立液室连通;以及喷出口,其与所述一个压力产生室连通,其中,所述液体喷出头能够使所述一个压力产生室中的液体通过成对的所述独立液室从所述第一共用液室和所述第二共用液室中的一者循环到所述第一共用液室和所述第二共用液室中的另一者。
本发明还提供一种液体喷出头,所述液体喷出头包括:如上所述的液体喷出头基板,在该液体喷出头基板为所述分隔壁的一个循环配置所述多个单元中的一个单元;以及构件,其形成于所述支撑基板的所述第一面,并且包括:一个压力产生室,其与所述多个单元中的每个单元用的成对的所述独立液室连通;以及喷出口,其与所述一个压力产生室连通,其中,所述液体喷出头能够使所述一个压力产生室中的液体通过成对的所述独立液室从所述第一共用液室和所述第二共用液室中的一者循环到所述第一共用液室和所述第二共用液室中的另一者。
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