[发明专利]曝光装置以及物品的制造方法有效
申请号: | 201810642012.2 | 申请日: | 2018-06-21 |
公开(公告)号: | CN109100920B | 公开(公告)日: | 2021-07-09 |
发明(设计)人: | 早川崇志;佐藤隆纪 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人: | 孙蕾 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 曝光 装置 以及 物品 制造 方法 | ||
本发明涉及曝光装置及物品的制造方法。提供曝光装置,具有:载置台,保持基板使该基板移动;控制部,控制载置台;第1测量部,在被载置台保持的基板的拍摄区域到达对拍摄区域曝光的曝光区域之前测量拍摄区域的高度方向的位置;第2测量部,先于第1测量部而测量拍摄区域的高度方向的位置,控制部通过用于根据由第2测量部测量拍摄区域的高度方向的位置而得的第1测量值来使基板在高度方向上移动的第1驱动、用于根据接着第1驱动而由第1测量部测量拍摄区域的高度方向的位置而得的第2测量值和第1测量值来使基板在高度方向上移动的第2驱动控制载置台,以使在拍摄区域到达曝光区域之前使被载置台保持的基板的高度方向的位置成为最终目标位置。
技术领域
本发明涉及曝光装置以及物品的制造方法。
背景技术
在使用光刻技术来制造半导体器件等时,使用一边对掩模和基板进行扫描一边将掩模的图案转印到基板的步进扫描方式的曝光装置(扫描仪)。在日本特开2014-143429号公报中提出了在这样的曝光装置中设置多个测量部,该测量部测量被基板载置台保持的基板的表面位置(高度方向的位置)。在日本特开2014-143429号公报中公开了一种曝光装置,该曝光装置具有:第1测量部(提前读取传感器),测量从曝光狭缝的投影位置相对于扫描方向远离的位置;以及第2测量部(更提前读取传感器),测量从曝光狭缝的投影位置比第1测量部更加远离的位置。
另外,扫描曝光中的基板的曝光对象区域向最佳曝光位置对齐是通过根据第2测量部的测量结果来驱动基板载置台的第1驱动、以及根据第1测量部的测量结果来驱动基板载置台的第2驱动来进行的。这里,所谓最佳曝光位置是适当的高度方向的位置,是曝光狭缝(像面)的最佳聚焦位置以及相对于该最佳聚焦位置而处于容许焦深的范围内的位置。
进而,在日本特开2003-254710号公报中提出了作为测量被基板载置台保持的基板的表面位置的测量部而使用时间平均型传感器的技术。在日本特开2003-254710号公报中,在测量被基板载置台保持的基板的表面位置的过程中,根据扫描曝光中的扫描速度来调整时间平均型传感器的测量开始时刻以及测量结束时刻,从而将作为测量对象的基板的表面位置的区域维持为恒定。
发明内容
为了提高曝光装置的生产率,可考虑使扫描曝光时的基板载置台的扫描速度变快而缩短曝光所需的时间。在该情况下,从基板的表面位置的测量起至开始基板的曝光为止的时间变短,所以需要缩短基板的曝光对象区域向最佳曝光位置的对齐所需的时间。
为了即使在扫描曝光中的基板载置台的扫描速度变快的情况下也将作为测量对象的基板的表面位置的区域维持为恒定,需要根据扫描速度、扫描距离以及扫描时间的关系来缩短基板的表面位置的测量所需的时间。然而,当缩短基板的表面位置的测量所需的时间时,S/N比下降,成为在基板的曝光对象区域向最佳曝光位置的对齐过程中产生误差的主要原因。
本发明提供有利于基板载置台向基板的高度方向的驱动控制的曝光装置。
作为本发明的一个方面的曝光装置一边使掩模和基板移动一边曝光所述基板,从而将图案转印到所述基板上,所述曝光装置的特征在于,具有:载置台,保持所述基板使该基板移动;控制部,控制所述载置台;第1测量部,在被所述载置台保持的所述基板的拍摄区域到达对所述拍摄区域进行曝光的曝光区域之前,测量所述拍摄区域的高度方向的位置;以及第2测量部,先于所述第1测量部而测量所述拍摄区域的所述高度方向的位置,所述控制部通过第1驱动和第2驱动控制所述载置台,以使在所述拍摄区域到达所述曝光区域之前使被所述载置台保持的所述基板的所述高度方向的位置成为最终目标位置,其中,该第1驱动用于根据由所述第2测量部测量所述拍摄区域的所述高度方向的位置而得到的第1测量值来使所述基板在所述高度方向上移动,该第2驱动接着所述第1驱动,该第2驱动用于根据由所述第1测量部测量所述拍摄区域的所述高度方向的位置而得到的第2测量值和所述第1测量值来使所述基板在所述高度方向上移动。
本发明的进一步的目的或者其它方面将通过以下参照附图来说明的优选的实施方式而变明确。
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