[发明专利]一种水处理系统及工艺

权利要求书

1.一种水处理系统，其特征在于：包括调节池A和PLC控制器，调节池A上部出水口连接提升泵A，且调节池A出水口与提升泵A之间管路上设置有电动阀A，调节池A中设置有第一液位计及第一在线监测仪，提升泵A与电容吸附装置的进水口连接，且提升泵A与电容吸附装置之间管路上设置流量计A和电动阀C，电容吸附装置的出水口设置有第二在线监测仪和电动阀F，PLC控制器分别与电动阀A、提升泵A、液位计、第一在线监测仪、流量计A、电动阀C、第二在线监测仪和电动阀F电连接。

2.根据权利要求1所述的一种水处理系统，其特征在于：所述的电容吸附装置还通过回流管路连接调节池A，回流管路上设置有电动阀E，电动阀E与PLC控制器电连接。

3.根据权利要求1所述的一种水处理系统，其特征在于：水处理系统还包括解吸系统，所述的解吸系统包括盛装有解吸液的调节池B，调节池B内设置有第二液位计及第三在线监测仪，电容吸附装置的出水口通过管路连接调节池B的进水口，且电容吸附装置与调节池B之间管路上设置有电动阀G，调节池B的出水口通过提升泵B连接电容吸附装置的进水口，且调节池B出水口与提升泵B之间管路上设置有电动阀B，提升泵B与电容吸附装置之间管路上设置有电动阀D和流量计B，阳极板、阴极板、第二液位计、第三在线监测仪、电动阀G、提升泵B、电动阀B、电动阀D和流量计B分别与PLC控制器电连接。

4.根据权利要求1所述的一种水处理系统，其特征在于：电吸附装置用于吸附阴阳离子，电吸附装置吸附的阳离子包括钠离子、钙离子、镁离子、镉离子、铜离子、铁离子、铅离子和砷离子中的一种或多种，电吸附装置吸附的阴离子包括氯离子、硫酸根离子、硝酸根离子和氟离子中的一种或多种。

5.根据权利要求1-4中任意一项所述的一种水处理系统，其特征在于：所述的电容吸附装置包括壳体和设置于壳体上的滑轨，壳体内设置有多个沿滑轨延伸方向交替间隔设置的阳极板和阴极板，滑轨上滑动安装有与所述阳极板和阴极板一一对应的滑块，所述的阳极板和阴极板均与对应的滑块固定连接。

6.根据权利要求5所述的一种水处理系统，其特征在于：所述的阳极板和阴极板均包括石墨板、以及在石墨板的双面或单面填充的电极材料。

7.根据权利要求5所述的一种水处理系统，其特征在于：相邻的阳极板和阴极板间通过伸缩杆连接。

8.根据权利要求5所述的一种水处理系统，其特征在于：所述的滑轨上设置有刻度。

9.一种水处理工艺，其特征在于：包括以下步骤：

S1、污水厂尾水出水口通过管路连接调节池A的进水口，污水经调节池调节水质后进入电容吸附装置内，待处理污水在电容吸附装置内停留时间为3~6h，经第二在线监测仪测试达预设总磷标准后，PLC控制器控制电动阀F打开排放至地表水，若第二在线监测仪测试不达标，则PLC控制器控制电磁阀E打开，通过回流管回流至调节池A再次继续处理；

S2、电容吸附装置吸附3~6h后，通过PLC控制器将电容吸附装置电极反接切换为解吸过程，调节池B内的解吸液通过提升泵B泵入电容吸附装置，电容吸附装置的出水通过管路循环至调节池B，循环解吸2h后，将解吸液回至调节池B，浓缩至一定浓度后通过处理形成磷肥。

10.根据权利要求9所述的一种水处理工艺，其特征在于：还包括：调节池A的第一液位计和调节池B的第二液位计设置为低液位、中液位及高液位，调节池A或调节池B处于低液位时，水泵A或水泵B不运行，中液位设置为启动液位，启动液位的深度通过PLC控制器调节，处于高液位时，PLC控制器控制报警。