[发明专利]曲面强化玻璃及其制备方法在审
申请号: | 201810643693.4 | 申请日: | 2018-06-21 |
公开(公告)号: | CN110627377A | 公开(公告)日: | 2019-12-31 |
发明(设计)人: | 锺志明;廖峻伟;林幸樵 | 申请(专利权)人: | 正达国际光电股份有限公司 |
主分类号: | C03C21/00 | 分类号: | C03C21/00 |
代理公司: | 72003 隆天知识产权代理有限公司 | 代理人: | 张福根;冯志云 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;TW |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 强化玻璃 平面玻璃 缓冲层 基材 制备 离子交换 化学强化 基材表面 简化生产 制造过程 不良率 弯折部 遮挡 | ||
1.一种曲面强化玻璃的制备方法,其特征在于,所述曲面强化玻璃的制备方法包括:
提供一平面玻璃基材,其包括一缓冲层;以及
将所述平面玻璃基材进行化学强化处理,所述平面玻璃基材通过化学强化处理而进行离子交换,以得到一曲面强化玻璃;
其中,所述平面玻璃基材于化学强化处理中,通过所述缓冲层的遮挡,使得所述平面玻璃基材表面的离子交换深度不同,以让所述平面玻璃基材在所述缓冲层的位置形成一弯折部。
2.如权利要求1所述的曲面强化玻璃的制备方法,其特征在于,其中,所述平面玻璃基材包括一光学膜层,所述光学膜层形成于所述平面玻璃基材表面上,所述缓冲层形成于所述平面玻璃基材的表面。
3.如权利要求1所述的曲面强化玻璃的制备方法,其特征在于,其中,所述平面玻璃基材包括至少一缓冲区域,至少一所述缓冲区域位于所述平面玻璃基材靠近长边的表面,所述缓冲层形成于至少一所述缓冲区域上,以使得所述平面玻璃基材中被至少一所述缓冲层所遮挡的表面与未被至少一所述缓冲层所遮挡的其余表面的离子交换深度不同。
4.如权利要求3所述的曲面强化玻璃的制备方法,其特征在于,其中,所述平面玻璃基材包括另外一缓冲区域,两个所述缓冲区域分别位于所述平面玻璃基材的两相对应长边的表面上,所述缓冲层形成于两个所述缓冲区上,以使得所述平面玻璃基材中被两个所述缓冲层所遮挡的表面与未被两个所述缓冲层所遮挡的其余表面的离子交换深度不同。
5.如权利要求1所述的曲面强化玻璃的制备方法,其特征在于,其中,所述平面玻璃基材包括多个缓冲区域,每一个所述缓冲区域分别位于所述平面玻璃基材的两相对应长边的表面上,所述缓冲层形成每一个所述缓冲区域上,以使得所述平面玻璃基材中被每一个所述缓冲层所遮挡的表面与未被每一个所述缓冲层所遮挡的其余表面的离子交换深度不同。
6.如权利要求1所述的曲面强化玻璃的制备方法,其特征在于,其中,所述缓冲层的材料为无机化合物或有机化合物。
7.如权利要求1所述的曲面强化玻璃的制备方法,其特征在于,其中,所述缓冲层的材料选自于由二氧化硅、氮化硅、氧化铟锡、氧化钛、氧化铌以及其组合所组成的群组。
8.如权利要求1所述的曲面强化玻璃的制备方法,其特征在于,其中,所述缓冲层为一镀膜层或一涂料层。
9.如权利要求1所述的曲面强化玻璃的制备方法,其特征在于,其中,所述缓冲层的厚度范围为1纳米至100微米。
10.如权利要求1所述的曲面强化玻璃的制备方法,其特征在于,其中,在将所述平面玻璃基材进行化学强化处理的步骤中,所述平面玻璃基材是浸置于一化学强化熔融盐中进行化学强化处理。
11.如权利要求10所述的曲面强化玻璃的制备方法,其特征在于,其中,所述化学强化熔融盐为硝酸钾熔融盐或硝酸钠熔融盐。
12.如权利要求1所述的曲面强化玻璃的制备方法,其特征在于,其中,所述离子交换深度是介于5微米至150微米之间并包含5微米及150微米。
13.一种曲面强化玻璃,其特征在于,所述曲面强化玻璃包括至少一弯折部以及至少一缓冲层,所述缓冲层形成于所述弯折部的表面上,所述曲面强化玻璃中被至少一所述缓冲层所遮挡的表面与未被至少一所述缓冲层所遮挡的其余表面的离子交换深度不同。
14.如权利要求13所述的曲面强化玻璃,其特征在于,还进一步包括:另外一弯折部,两个所述弯折部相对形成于所述曲面强化玻璃的两相对长边。
15.如权利要求13所述的曲面强化玻璃,其特征在于,其中,所述离子交换深度是介于5微米至150微米之间并包含5微米及150微米。
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