[发明专利]导光体辅助设计方法

权利要求书

1.一种导光体辅助设计方法，其特征在于，包括：

以一处理器从一数据库中选定一发光源；

以该处理器从该数据库中选定一导光体的几何形状与折射率；

以该处理器设定该导光体的任两个介质面分别为该发光源的一入光面及一出光面；

以该处理器计算该发光源于该入光面的一入射点、一入射角、一反射角及一折射角；以及

以该处理器计算该发光源分别于该入光面及该出光面的总能量。

2.根据权利要求1所述的导光体辅助设计方法，其特征在于，该发光源以斐波那契网格方法所建立。

3.根据权利要求1所述的导光体辅助设计方法，其特征在于，进一步包括从以该处理器选定该发光源之后与以该处理器选定该导光体的几何形状与折射率之前，以该处理器设定该发光源于一电子装置内的一坐标位置。

4.根据权利要求1所述的导光体辅助设计方法，其特征在于，进一步包括以该处理器设定该入光面及该出光面之后与以该处理器计算该入射点、该入射角、该反射角及该折射角之前，以该处理器从该数据库中选定一位于该发光源与该导光体之间的挡光体。

5.根据权利要求1所述的导光体辅助设计方法，其特征在于，该处理器依据斯涅尔定律计算该反射角与该折射角。

6.根据权利要求1所述的导光体辅助设计方法，其特征在于，该处理器依据菲涅耳方程式计算该发光源于该入光面与该出光面的总能量。

7.根据权利要求1所述的导光体辅助设计方法，其特征在于，进一步包括以该处理器设定该出光面与该出光面之后以及以该处理器计算该入射点、该入射角、该反射角及该折射角之前，以该处理器设定该发光源于该导光体内的反射次数上限。

8.根据权利要求1所述的导光体辅助设计方法，其特征在于，进一步包括以该处理器设定该出光面与该出光面之后以及以该处理器计算该入射点、该入射角、该反射角及该折射角之前，以该处理器设定该出光面的总能量与该入光面的总能量的比值下限。

9.根据权利要求1所述的导光体辅助设计方法，其特征在于，进一步包括从以该处利器选定该发光源之后，以该处理器计算该发光源的初始总能量。

10.根据权利要求1所述的导光体辅助设计方法，其特征在于，进一步包括以该处理器设定该出光面与该出光面之后以及以该处理器计算该入射点、该入射角、该反射角及该折射角之前，以该处理器设定从该出光面发出光线的距离与方向。